Gebraucht PERKIN ELMER 600 series HT #195230 zu verkaufen

PERKIN ELMER 600 Serie HT ist eine fortschrittliche Maskenausrichtausrüstung mit einem hochpräzisen Schrittmotor-Bewegungsregler, der es ermöglicht, empfindliche Masken genau auf Substrate für die Halbleiterherstellung auszurichten. Das System verfügt über einen beheizten Substrathalter, eine Theta-Stufe zur präzisen Winkelorientierung und eine x-y-Translationsstufe, die sowohl schrittweise als auch kontinuierliche Bewegungsoperationen ermöglicht. Die Einheit ist für die photolithographische Prozesssteuerung optimiert, mit Fähigkeiten für erweiterte Belichtungssteuerung, Ausrichtungsrückmeldung für zehnfache Vergrößerungsschrittausrichtung und On-Axis-Bildgebung für bessere Fokussierungsgenauigkeit. Um empfindliche Masken effektiv auszurichten, verwendet die 600-Serie HT einen vollständig programmierbaren heuristischen Maskenausrichtungsalgorithmus, der die Belichtungen basierend auf variablen Wafer- und Maskenkonfigurationen automatisch optimiert. Dieser Algorithmus stellt sicher, dass die aktiven Schichten der Maske immer im richtigen Fokus auf den Wafer stehen, wodurch eine durch die Wafer-Stapelhöhenunterschiede verursachte Fehlausrichtung verhindert wird. Darüber hinaus ermöglicht die Maschine eine „Verweildauer“ zwischen den Expositionen, die dazu beiträgt, die Fehlregistrierung von Maskenmasken zu reduzieren und die Wiederholbarkeit der Prozesse zu verbessern. PERKIN ELMER 600 Serie HT verfügt auch über ein modernes optisches Mikroskop-Bildgebungswerkzeug mit On-Axis-Bildgebung, die eine signifikante Verbesserung der Fokussiergenauigkeit auf Off-Axis-Systeme bietet. Dies ermöglicht es dem Asset, kritische Ausrichtungsmarkierungen auf Schichten nahe der Oberfläche der Maske oder des Substrats genau zu identifizieren und zu fokussieren, wodurch dieses Modell ideal für die Herstellung von Fabs ist, die eine strenge Fokuskontrolle erfordern. 600 Serie HT ist weiter mit einer anwenderwählbaren Wafergröße ausgestattet, so dass ein Bediener während des Setups seine gewünschte Wafergröße leicht auswählen kann. Diese reduzierte Rüstzeit in Verbindung mit automatischer Belichtungsoptimierung ermöglicht eine schnelle Ausrichtung und Fokuswiederholbarkeit zwischen den Belichtungen. Das Gerät bietet auch ein modernes luftbetriebenes Kühlsubsystem, das einen höheren Durchsatz ermöglicht und gleichzeitig Schäden vermeidet, die typischerweise durch Wasserkühlung entstehen. Das System kann so eingestellt werden, dass die Kühlung unmittelbar vor der Belichtung jeder Schicht erfolgt, was kühlere Wafer und kürzere Belichtungszeiten ermöglicht. Zusammenfassend ist PERKIN ELMER 600 Serie HT eine fortschrittliche Maskenausrichteinheit, die für die Photolithographie-Prozesssteuerung optimiert ist. Diese Maschine verfügt über einen benutzerprogrammierbaren heuristischen Ausrichtungsalgorithmus zur genauen Ausrichtung empfindlicher Masken, ein fortschrittliches On-Axis-Bildgebungswerkzeug zur besseren Fokussierung der Genauigkeit, luftbetriebene Kühlung zur Verringerung von Schäden und zur Erhöhung des Durchsatzes sowie eine anwenderwählbare Wafergröße für eine einfache Einrichtung.