Gebraucht QUANTEL NXQ 4000 #9218302 zu verkaufen

Hersteller
QUANTEL
Modell
NXQ 4000
ID: 9218302
Mask aligner.
QUANTEL NXQ 4000 ist ein hochpräziser Maskenausrichter, der entwickelt wurde, um genaue und konsistente Photolithographieergebnisse zu erzielen. Mit den neuesten Ausrichtungs- und Automatisierungstechnologien ist NXQ 4000 eine ideale Photolithographielösung für fortschrittliche Halbleiterbauelemente und MEMS. Dieser Masken-Aligner bietet einen präzisen Fokus und eine digital gesteuerte Schrittmotorausrüstung. Es ist in der Lage, Waferausrichtung und Fehlerüberprüfung sowohl in Ausrichtungs- als auch in Belichtungsprozessen durchzuführen. QUANTEL NXQ 4000 ist mit einem hochpräzisen Autofokussensor zur genauen Positionierung des Wafers ausgestattet. Eine integrierte Inspektionskamera unterstützt den Bediener bei der präzisen Überprüfung der Waferorientierung und Platzierung. Darüber hinaus umfasst es ein fortschrittliches Vision-System für eine schnelle und zuverlässige Erkennung und Ausrichtung komplexer und anspruchsvoller Strukturen. NXQ 4000 ist hochautomatisiert und einfach zu bedienen. Mit einem modularen Aufbau ist es in der Lage, eine Vielzahl von Aufgaben zu erfüllen, vom Kontaktdruck bis hin zu Bildschrittaufnahmen in einem Schritt. Die vollautomatisierte Fördereinheit sorgt für einen schnellen Waferwechsel ohne Belichtungsunterbrechungen. QUANTEL NXQ 4000 umfasst viele Funktionen wie eine berührungslose Schutzmaschine, ein Mehrbenutzer-Tool, hochempfindlichen Schutz, vollständige Bestätigungsfunktion, programmierbare optische Ausrichtung, integriertes Vision-Asset und programmierbare Scannersteuerung. Darüber hinaus bietet es eine mitgelieferte QA-Masken-Screening-Fähigkeit zur präzisen Fehlerinspektion ohne manuellen Eingriff. Insgesamt ist NXQ 4000 ein fortschrittlicher Maskenausrichter, der entwickelt wurde, um hochgenaue Photolithographieergebnisse für selbst die komplexesten und anspruchsvollsten Strukturen zu erzielen. Es bietet ein hohes Maß an Automatisierung, Flexibilität und Leistung und ist damit ein wesentliches Werkzeug für effiziente Photolithographie-Operationen.
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