Gebraucht QUINTEL / NEUTRONIX 401 #9065113 zu verkaufen

QUINTEL/NEUTRONIX 401 ist ein Masken-Aligner für den Einsatz in Photolithographie-Prozessen bei der Leiterplattenherstellung. Es liefert genaue und präzise Belichtung von Resistschichten während des Photomaskierungsprozesses. Die Elektronik der Maschine wird um eine zentrale Bedienkonsole gebaut, die alle wichtigen Komponenten und Steuerungen integriert. Die Maschine wurde entwickelt, um mit 3-Zoll, 6-Zoll und 8-Zoll-Ausrichtungsmasken zu arbeiten und bietet eine Reihe von Belichtungsparametern für verschiedene Substrate. Es ist mit drei Belichtungsstationen gebaut, von denen zwei für die mehrachsige Ausrichtung und Abtastung verwendet werden können. Die Maschine kann je nach Größe des Substrats entweder zwei oder vier gestufte Ausrichtschienen verwenden. Die Maschine ist mit einem einzigartigen programmierbaren Joystick ausgestattet, der es dem Bediener ermöglicht, Substrate unter den äußeren Belichtungsfeldern schnell und genau auszurichten. Mit Hilfe einer optischen Mikroskopieeinrichtung stellt der Joystick automatisch die Position des Substrats relativ zu den Masken gegenüber dem Live-Programm ein. Diese Fähigkeit gewährleistet eine hohe Qualität wiederholbare Ergebnisse und perfekten Kontakt zwischen der Maske und dem Substrat. QUINTEL 401 ist zudem mit einem verstellbaren Fokussystem ausgestattet, um eine genaue Positionierung des Substrats zu gewährleisten. Zur Messung des vertikalen Abstandes zwischen der Resistschicht des Substrats und der Maskenschicht wird eine hochgenaue vertikale Verschiebungsmeßeinheit verwendet. Es ist für eine maximale Wafergröße von 8 Zoll im Durchmesser ausgelegt. Die Maschine ist mit hochwertigen, korrosionsbeständigen Materialien konstruiert, die langen Betriebsstunden in rauen industriellen Umgebungen standhalten können. Es umfasst eine eingebaute Kühlmaschine und hat eine automatisierte Zykluszeit von weniger als 2 Minuten. Die Maschine besteht aus zwei Hauptplatten mit Ober- und Untermatrizen, die eine genaue Berührung und Registrierung zwischen den Masken und dem Substrat gewährleisten. Insgesamt ist NEUTRONIX 401 Masken-Aligner ein zuverlässiges und effizientes Werkzeug zur Erzielung hochpräziser Photolithographie-Prozesse. Es bietet ein robustes Werkzeug zur präzisen Belichtung von Resistschichten in der Leiterplattenherstellung mit wiederholbaren, qualitativ hochwertigen Ergebnissen. Es wurde entwickelt, um jahrelangen zuverlässigen Betrieb in rauen industriellen Umgebungen zu gewährleisten und wird durch vorbildlichen Kundenservice und technischen Support unterstützt.