Gebraucht QUINTEL / NEUTRONIX 7000 #293631832 zu verkaufen

QUINTEL/NEUTRONIX 7000 Maske Aligner ist eine computergesteuerte automatisierte Ausrichteinrichtung, die eine zuverlässige und präzise Ausrichtung verschiedener Photomasken und Wafer bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen ermöglicht. Dieses Hochleistungssystem bietet ein vollautomatisches Verfahren zur Ausrichtung von Photomasken auf Wafer und bietet eine hervorragende Leistung sowohl für die Feinausrichtung als auch für die Grobausrichtung. Das Gerät ist mit zwei unabhängigen Maskierungseinheiten mit automatischer Ausrichtung ausgestattet, die eine Genauigkeit von 5um oder weniger registrieren können. Dadurch wird ein ordnungsgemäßes Aufsetzen der Masken auf die Substrate vor der Belichtung gewährleistet. Die Maschine nutzt eine sehr hohe Vakuum-Kontamination-kontrollierte Umgebung, die hilft, die höchstmögliche Auflösung und Durchsatz bei der Verwendung von hochempfindlichen Photomasken zu halten. Das Werkzeug verwendet digitale Motorsteuerungen, um die Maske während der Ausrichtung und Belichtung zu bewegen. Diese Bewegungssteuerung gewährleistet eine genaue Position und dynamische Abbildung der Fotomaske. Es kommt auch mit einer fortschrittlichen optischen Ausrichtung Asset, die einstellbare telezentrische Optik verwendet, um die Auflösung zu verbessern und die optischen Eigenschaften einer Vielzahl von Substraten einschließlich SiO2, SiN, Polyimid und Glas entsprechen. QUINTEL 7000 Maske Aligner ist eine Form von dedizierten Maske Aligner speziell entwickelt, um höhere Ertragsqualität Geräte als kundenspezifische Produktion Photomasken zu produzieren. Es ist auch in der Lage, Metall-Musterung, Array-Druck und mehr effizient zu handhaben. Das Modell ist präzise entwickelt, um eine reibungslose, wiederholbare und zuverlässige Ausrichtung von Photomasken sowie Substraten verschiedener Größen, Dicken und Formen, einschließlich abgerundeter, zu ermöglichen. Insgesamt ist NEUTRONIX 7000 Mask Aligner eine zuverlässige und effiziente automatisierte Ausrüstung zur Herstellung hochwertiger Geräte durch präzise Ausrichtung von Photomasken auf Wafer. Es bietet eine konkurrenzlose Kombination aus Geschwindigkeit, Genauigkeit und Präzision für feine und grobe Ausrichtungsaufgaben. Das System verfügt auch über eine erweiterte Motorsteuerung, optische Ausrichtung und Vakuumsteuerung, die eine zuverlässige und genaue Ausrichtung von Photomasken auf Substrate gewährleistet.