Gebraucht QUINTEL / NEUTRONIX 7000 #293816223 zu verkaufen

ID: 293816223
Wafergröße: 4"- 5"
Weinlese: 2001
Mask aligner, 4"- 5" Infrared (IR) backside alignment illumination OPTEK QTL2001 Split-field microscopes TS PRODUCTS 1200 Precision actuators Q-500 Lamp house UV Power supply unit 2001 vintage.
QUINTEL/NEUTRONIX Q7000 Maske Aligner ist ein hochpräzises Lithographiewerkzeug zur Herstellung von Halbleiterchips. Es ist in der Lage, sehr kleine Strukturen mit Abmessungen zu erzeugen, die in Nanometern gemessen werden, und eignet sich gut für die Herstellung komplizierter und komplexer Schaltungsmuster. QUINTEL Q7000 verwendet eine hochpräzise, computergesteuerte Stufe, um ein Retikel, das das zu bedruckende Muster enthält, genau auf das Substrat zu positionieren. Es verwendet Präzisionsoptiken und eine Vielzahl von Laserbeleuchtungsquellen, um sicherzustellen, dass Muster in höchster Genauigkeit gedruckt werden. NEUTRONIX Q 7000 verwendet ein zweistufiges Verfahren zur Belichtung des Musters auf einem Wafer. Zunächst wird ein elektrisches Feld erzeugt, um Ionen des Resistmaterials auf die Oberfläche des Wafers anzuziehen. Dann wird Energie auf das Resistmaterial aufgebracht, um es zu heilen. Das elektrische Feld wird durch eine Reihe von Elektroden erzeugt, die um den Belichtungskopf der Maschine angebracht sind. Dieses Potential wird eingestellt, um den Fokus des Laserlichts einzustellen, und kann innerhalb eines Nanometers genau durchgeführt werden. Das bemerkenswerteste Merkmal des QUINTEL Q 7000 ist seine optische Ausstattung. Das optische System umfasst einen optischen Bohrer, mit dem das Laserlicht auf den Wafer geformt und fokussiert wird. Die Einheit enthält auch einen linearen Scanner, mit dem der Strahl in einem kreisförmigen oder Rastermuster bewegt wird und die Muster genau auf den Wafer geätzt werden. Der lineare Scanner hat auch die Fähigkeit, Belichtungswege zu wiederholen, wodurch eine hohe Genauigkeit und Wiederholbarkeit gewährleistet ist. Neben der hohen Genauigkeit ist QUINTEL/NEUTRONIX Q 7000 auch in der Lage, mehrere Wafer gleichzeitig zu bearbeiten. Es ist in der Lage, bis zu acht Wafer gleichzeitig zu handhaben, was einen schnelleren Durchsatz ermöglicht. Die Maschine ist auch mit hochpräzisen Sensoren und Rückkopplungssystemen ausgestattet, um die Ausrichtung jedes Wafers zu überwachen, um die Genauigkeit zu gewährleisten. Um einen sicheren und ergonomischen Betrieb zu gewährleisten, ist Q 7000 mit einer Remote-Konsole ausgestattet, die zur Steuerung des Werkzeugs verwendet werden kann. Die Konsole wird auch verwendet, um Informationen über den Status der Lithographie und den Fortschritt der Arbeit anzuzeigen. Dadurch wird sichergestellt, dass etwaige Vermögenswertstörungen oder Überforderungen sofort erkannt werden. Insgesamt ist NEUTRONIX Q7000 Mask Aligner ein beeindruckendes und zuverlässiges Lithographiemodell, das konsistente und genaue Ergebnisse liefern kann. Seine Präzisionsoptik, die Vielzahl an Laserquellen und die Fähigkeit, mehrere Wafer gleichzeitig zu verarbeiten, machen es zu einer guten Wahl für die Herstellung moderner Halbleiterbauelemente.
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