Gebraucht QUINTEL / NEUTRONIX 7000 #9140529 zu verkaufen

QUINTEL / NEUTRONIX 7000
ID: 9140529
Wafergröße: 6"
Mask aligner, 6" IR Backside alignment.
QUINTEL/NEUTRONIX 7000 ist ein hochmoderner Maskenausrichter, der bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen eingesetzt wird. Dieses Gerät wurde entwickelt, um eine präzise Ausrichtung und Positionierung von Photomasken während des Lithographieprozesses zu ermöglichen. Der Aligner verwendet eine einzigartige interferometrische Stufe, die hohe Auflösung, Wiederholbarkeit und dynamische Genauigkeit bietet. Dies ist ideal für die Produktion von hochertragreichen Geräten. Der Aligner ist mit einem laseroptischen System ausgestattet, das in der Lage ist, Bilder mit hoher Auflösung zu erfassen. Dieses Gerät verfügt über einen Doppelkeilkompensator, um die höchste optische Genauigkeit zu gewährleisten. Die vom Laser erfassten Bilddaten werden weiter digitalisiert und von einem digitalen Signalprozessor (DSP) analysiert, der die genauen Koordinaten der Flanken der Fotomaske zur genauen Ausrichtung liefert. QUINTEL 7000 Maschine verwendet fortschrittliche Vision-Technologie, um ein hohes Maß an Automatisierung zu bieten. Dadurch kann der Bediener den Fokus und die Belichtung der Fotomaske schnell einstellen, um sie exakt auf den Wafer auszurichten. Das Werkzeug ist auch in der Lage, die Belichtungszeit und Brennweite automatisch anzupassen, um eine konsistente Ausrichtung über mehrere Musterzyklen zu gewährleisten. Der Aligner arbeitet über eine benutzerfreundliche grafische Oberfläche mit Touchscreen-Display. Dadurch kann der Anwender schnell Designparameter eingeben und bei Bedarf schnelle Bearbeitungen vornehmen. Die Maschine ist auch in der Lage, eine Vielzahl von Substraten und Masken aufgrund seiner verstellbaren Basis und Aktoren unterzubringen. NEUTRONIX 7000 ist ein leistungsstarkes Werkzeug zur Herstellung zuverlässiger und ertragreicher Halbleiterbauelemente. Das Asset bietet eine präzise Ausrichtung und ist hochautomatisiert und ermöglicht die effiziente Erstellung komplexer Designs. Darüber hinaus ist das Modell in der Lage, eine Vielzahl von Substraten und Masken unterzubringen, so dass eine vielseitige Gerätedesign und Herstellung.
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