Gebraucht QUINTEL / NEUTRONIX Q 4006 #9053626 zu verkaufen

ID: 9053626
Mask aligner Tooling: 4" / 6" Masks being used: 5" / 7" Substrates: 2" Silicon Zoom microscope (2) Rotating turrets Objectives: 2x, 5x UV light source capability: 350 W / 500 W.
QUINTEL/NEUTRONIX Q 4006 ist ein vollautomatisches, leistungsstarkes Wafer-Ausrichtungs- und Transferwerkzeug für die fortschrittliche Photolithographie. Es ist ein Masken-Aligner, der eine genaue und präzise Ausrichtung von Wafern auf Substrate mit hohem Durchsatz ermöglicht. Das Werkzeug hat eine kompakte Stellfläche und ist für hervorragende Leistung in Photolithographie- und Photomasken-Anwendungen konzipiert. QUINTEL Q 4006 verfügt über eine breite Palette von Funktionen und Funktionen, die es zu einer guten Wahl für jede Photolithographie-Anwendung machen. Das Werkzeug hat eine maximale Ausrichtgenauigkeit von 200 Mikron und einen maximalen Waferdurchmesser von 8 Zoll. Es verfügt auch über eine integrierte Kamera, um eine genaue Ausrichtung und ein Vision-System zu gewährleisten, um Echtzeit-Overlay-Informationen bereitzustellen. Das Tool unterstützt mehrere Stufen, einschließlich Single-Mode, Double-Mode und Multi-Mode. Darüber hinaus enthält es die Erweiterte Ausrichtungsfunktion, um erweiterte Ausrichtungsstrategien zu ermöglichen. NEUTRONIX Q 4006 nutzt fortschrittliche optische Bildgebungstechnologie und ein proprietäres optisches Verbindungsdesign, um sicherzustellen, dass Ausrichtungs- und Übertragungsergebnisse von hoher Qualität sind. Das Tool verfügt auch über mehrere Automatisierungs- und Benutzerfreundlichkeitsfunktionen, wie automatisierte Sequenzierung von Programmen, eine Touchscreen-Schnittstelle und eine breite Palette von Datenverwaltungsoptionen. Diese Funktionen ermöglichen sowohl Batch- als auch Programmoperationen mit minimaler Interaktion des Benutzers. Die eingebauten Sicherheitsfunktionen des Werkzeugs sorgen dafür, dass der Ausrichtungs- und Transferprozess effizient und sicher ist. Q 4006 entspricht den EU-Vorschriften für Klasse-III-Produkte und wurde entwickelt, um sowohl RoHS als auch WEEE-Anforderungen zu erfüllen. Zusätzlich verfügt das Werkzeug über einen intuitiven Not-Aus-Schalter und einen bewachten Mechanismus zur Vermeidung von Unfällen während des Betriebs. QUINTEL/NEUTRONIX Q 4006 ist eine zuverlässige und kostengünstige Wahl für hochgenaue Photolithographie-Anwendungen. Die Kombination aus fortschrittlichen Funktionen, automatisierter Benutzerfreundlichkeit und robusten Sicherheitsfunktionen machen es zu einer idealen Wahl für jede Waferausrichtungs- und Transferanwendung.
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