Gebraucht QUINTEL / NEUTRONIX Q7000 IR #9191163 zu verkaufen
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ID: 9191163
Wafergröße: 4"
Weinlese: 2001
Mask aligner, 4"
Chucks
Window for backside IR
2001 vintage.
QUINTEL/NEUTRONIX Q7000 IR ist ein Produktionsmasken-Aligner für den Einsatz in der Halbleiterherstellung. Es ist in der Lage, Lithographiemuster mit einem hohen Grad an Genauigkeit und Präzision zu produzieren, so dass hochpräzise integrierte Schaltungen hergestellt werden können. QUINTEL Q7000 IR besteht aus einem großen Rahmen mit einer großen, vakuumdichten Belichtungskammer in seiner Mitte. Diese Kammer verfügt über eine Vielzahl von hochpräzisen Objektiven und Spiegeln, die von einer digitalen Steuerung gesteuert werden. Dieses System wurde entwickelt, um Kristalle mit maximaler Raumauflösung zu erzeugen, die genaue Lithographiemuster über den gesamten Arbeitsbereich ermöglichen. NEUTRONIX Q7000 IR verfügt zudem über einen präzisen Mustergenerator. Dieser Generator richtet die Lithographiemaske exakt auf das Quarzsubstrat aus und sorgt für perfekte Lithographiemuster. Der Ausrichtungsprozess wird durch eine dreiachsige Steuereinheit und ein Videoterminal zur Optimierung verbessert. Das Gerät verfügt außerdem über eine einstellbare Infrarot (IR) -Laserquelle, mit der Feinwiderstandsmuster in das Substrat geätzt werden. Die Maschine ist auch in der Lage, die Laserintensität sowie die Laserleistung abhängig von den zu erzeugenden Schaltungen zu steuern. Q7000 IR enthält auch einen Hochgeschwindigkeitslader und Entlader, um sicherzustellen, dass jedes Substrat schnell bearbeitet und effizient gespeichert wird. Das Gerät zeigt auch ein effizientes chemisches Verwaltungswerkzeug, das sicherstellt, dass der Hochleistungslaserproduktionsprozess keine Verunreinigung oder Degradierung von Materialien verursacht. Für genaue Messungen und Analysen verfügt QUINTEL/NEUTRONIX Q7000 IR über ein optisches Testobjekt. Dieses Modell misst genau die minimalen Lithographiemuster und die elektrischen Eigenschaften der Schaltung. Das Gerät bietet auch Echtzeit-Überwachung der Wafer-Fertigung, so dass Anpassungen in den Produktionseinstellungen des Wafers, um qualitativ hochwertige Schaltungen mit reduzierter Ausschussrate zu produzieren. Abschließend ist QUINTEL Q7000 IR Maske Aligner ein fortschrittliches Produktionsgerät, das in der Halbleiterherstellung verwendet wird. Es bietet die Möglichkeit, hochgenaue Lithographiemuster auf Quarzsubstraten zu erzeugen sowie die Laserintensität und Leistung zu steuern. Es enthält auch einen Hochgeschwindigkeitslader und Entlader und eine optische Testausrüstung zur Messung kleiner Lithographiemuster und elektrischer Eigenschaften von Schaltkreisen.
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