Gebraucht QUINTEL / NEUTRONIX Q7000 #293603582 zu verkaufen

QUINTEL/NEUTRONIX Q7000 ist ein vielseitiger Maskenausrichter zur Ausrichtung von Photomasken für Einzel- oder Mehrfachgerätemusteranwendungen und zur präzisen Verarbeitung mehrerer Geräte mit unterschiedlichen Charakterisierungsanforderungen. Es kann für Mikrofabrikationsaufträge verwendet werden, von der Basisgeräte- und Schaltungsverarbeitung bis hin zu den fortschrittlichen Technologien, die in modernen Embedded-Systemen eingesetzt werden. QUINTEL Q7000 verfügt über eine zweiachsige Präzisionsbewegungsstufe, die eine Submikron-Auflösung sowohl der X- als auch der Y-Achse des Substrats ermöglicht. Diese Stufe ist in der Lage, relative Geschwindigkeiten bis zu 25 cm/s, und Controller-Programmierfunktionen ermöglichen die vollständige Automatisierung des Musterprozesses. Zur einfachen Bedienung mit gängigen Software-Tools ist der Prozess auch in andere Umgebungsbetriebssysteme wie Windows integriert. Für Ausrichtungsanwendungen verfügt NEUTRONIX Q 7000 über ein automatisiertes Ausrichtungsmodul, das mit einem einzigartigen „Stereo Vision“ -Ansatz eine präzise Ausrichtung der gewünschten Bilder und Ebenen gewährleistet. Dieses Modul verwendet präzise bearbeitete Optik und einzigartige refraktive „Stereo-Vision“ -Techniken, um sicherzustellen, dass die beste Ausrichtung und detaillierteste Bild erreicht wird. Das Hauptmerkmal von QUINTEL/NEUTRONIX Q 7000 ist die Dualstrahl-Lithographie, die eine hohe Mustertreue auf jeder ebenen Oberfläche ermöglicht. Dies nutzt zwei beugungsoptische Sätze - eine auf dem Substrat und eine auf der Maske - und verfügt über einen breiten Fokussierungsbereich, der es ermöglicht, Bilder von besser als 0,1 um in der Linienbreite zu erzeugen. Weitere Merkmale des Dual-Beam-Lithographiesystems sind die Möglichkeit, Schritt- und Wiederholungsoperationen mit hohem Durchsatz durchzuführen, sowie kleinere Funktionsgrößen mit verbessertem lithographischen Kontrast. Weitere Merkmale von Q 7000 sind ein säurebeständiges Gehäuse, mit dem die Prozesschemikalien vom Substrat ferngehalten werden können, eine fortgeschrittene FOUP-Reinigungseinheit, die eine Kontamination des Prozesses verhindern soll, und eine integrierte Gasversorgungsmaschine zur Lieferung geeigneter Spülgase. Q7000 ist ein fortschrittliches Lithographie-Tool, das sich für hochwertige, hochpräzise Musteranwendungen eignet. Mit seinen ausgeklügelten Ausrichtungsmöglichkeiten, automatisierter Steuerungssoftware, Dual-Beam-Lithographie und anderen Funktionen ist es eine ideale Lösung für Mikrofabrikationsanforderungen.