Gebraucht QUINTEL / NEUTRONIX Ultraline 7000 #200801 zu verkaufen

QUINTEL / NEUTRONIX Ultraline 7000
ID: 200801
Wafergröße: 4"
High resolution mask aligner, 4".
QUINTEL/NEUTRONIX Ultraline 7000 ist ein präziser, automatisierter Maskenausrichter, der im Photolithographieverfahren eingesetzt wird, bei dem Muster auf die Oberflächen von Halbleiterchips übertragen werden. QUINTEL Ultraline 7000 bietet eine hohe Präzision und eine großformatige bildgebende Ausrüstung mit einer Vakuumkammer, die wiederholbare und zuverlässige Ergebnisse generiert. Herzstück der NEUTRONIX Ultraline 7000 ist die Waferbühne, ein anspruchsvolles piezoelektrisches Bauteil, das das Substrat mit höchster Genauigkeit bewegt. Die Waferstufe hat einen Durchmesser von 5 „und ist für eine breite Palette von Substraten mit einem Durchmesser von maximal 8“ und einem maximalen Gewicht von 600 lb.Das System bietet eine Positioniergenauigkeit von ± 3 µm und eine Wiederholbarkeit von ± 2 µm. Ultraline 7000 enthält auch einen Lithographiekopf mit Energiequellen wie Ultraviolettlicht von 267 nm oder 351 nm und Bestrahlungswinkeln von 0 ° oder 90 °. QUINTEL/NEUTRONIX Ultraline 7000 ist auch in eine fortschrittliche optische Einheit integriert, die eine Digitalkamera, Mikroskopobjektive und Schutzfilter umfasst, die den Bildkontrast verbessern. Die Maschine hat die Fähigkeit, Filter zu verwenden, die Out-of-Band-Strahlung blockieren können, um Oberflächenverschmutzung zu minimieren. QUINTEL Ultraline 7000 erleichtert die Belichtungssteuerung mit einer wartungsfreien Einsatzphotomaske, einer Quarzplatte mit mit Schwermetallen gefüllten Quarzzylindern, die exakt für die Übertragung (oder Blockierung) von Strahlung ausgelegt ist. Es verwendet auch ein Vakuumwerkzeug, um wiederholbares gleichmäßiges Vakuum in der Waferkammer und eine integrierte automatische Düsenreinigung für zuverlässigere Expositionen zu gewährleisten. NEUTRONIX Ultraline 7000 benötigt kein externes Gasversorgungsmodell und die elektrische Ausrüstung arbeitet unabhängig von jeder elektrischen Verbindung, so dass der Prozess schnell aufgebaut ist. Das System umfasst auch einen Polymerroboterarm mit Greiferarmen zum Be- und Entladen von Wafern und Masken. Insgesamt ist Ultraline 7000 ein effektiver, automatisierter Maskenausrichter, der präzise und konsistente Ergebnisse für die Photolithographie erzielen kann. Durch die Verwendung seiner fortschrittlichen Funktionen kann die Maschine helfen, hochwertige Geräte zu schaffen, die die Effizienz und Leistung von Halbleiterprodukten verbessern.
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