Gebraucht QUINTEL Q4000 Super Nova #9236254 zu verkaufen

QUINTEL Q4000 Super Nova ist ein Masken-Aligner, der in der Präzisions-Photolithographie verwendet wird, um gemusterte Materialien mit einer extremen UV-Belichtungsquelle zu erzeugen. Es ist ein fortschrittliches Werkzeug auf dem Gebiet der Halbleiterlithographie, das eine hohe Auflösung und einen Durchsatz im Nanometermaßstab bietet. Das Q4000 verwendet eine hochauflösende Projektionslinsenausrüstung, um eine genaue Strukturierung zu erreichen. Dieses optische System besteht aus einer niederfrequenten optischen Gruppe und einer hochfrequenten optischen Gruppe. Die Niederfrequenzgruppe umfasst die für die anfängliche optische Fokussierung des Strahls verwendeten Langbrennlinsen. Die primären Elemente der Hochfrequenz-optischen Gruppe werden mit Öffnung, revolverförmigen Doublets mit Öffnung und einem Volumenreflektor sowie einer Reihe von Kammern und Filterkomponenten geflogen. Dies ermöglicht eine präzise Anpassung an die Abbildungseigenschaften der Einheit ohne mechanische Bewegung. Die Beleuchtungsquelle des Q4000 ist ein mittlerer Leistungslaser. Dieser Laser ist spezialisiert auf effizientes Laserpulsmanagement und niedrige Kantenrauhigkeit (LER), was zu einer überlegenen Bildgebungsleistung führt. Die Beleuchtungssteuermaschine sorgt für eine gleichmäßige Belichtungsverteilungsgenauigkeit über den Wafer und bietet eine Dosissteuerung der Belichtung. Die Expositionsdosis wird durch das Ausrichtwerkzeug überwacht und eingestellt. Dieses Element umfasst ein automatisiertes Ausrichtungsverfahren zum Ausrichten einer Maske oder eines Retikels auf einen Wafer oder ein Substrat. Es ist in der Lage, die Probenregistrierung zu messen, jede Fehlausrichtung zu reduzieren und verschiedene Mustermerkmale zu lokalisieren, die zur Korrektur verwendet werden können. Das Modell enthält auch einen Ausrichtungsenergiemonitor, der Laserstrahlenergie verwendet, um Änderungen in der Ausrichtungsgenauigkeit zu erkennen und welche Korrekturen erforderlich sind. Die Steuerung des Q4000 bietet eine voll integrierte Mustersteuerung. Mit hochauflösender Musterbearbeitung, Entschieben von Daten und Bearbeitungssoftware mit hohem Durchsatz ermöglicht der Mustereditor die Programmierung von Masken- und Wafergeometrien mit synthetischen, Pixel-Arrays und gespeicherten realen Mustern. Dies gewährleistet die Genauigkeit von Mustern, die mit sauberen Kanten und scharfen Übergängen übertragen werden. Das Q4000 ermöglicht eine enge Prozesssteuerung und bietet hohe Präzision für die Musterung in der Chipherstellung. Das hohe Auflösungs-, Durchsatz- und Energiestrahlregelungssystem trägt zum erfolgreichen Einsatz in der Industrie bei. Es bietet überlegene Musterleistung für die Erstellung elektronischer Komponenten, insbesondere im Bereich der Nanoskala-Chips.