Gebraucht QUINTEL Q4000 #293831189 zu verkaufen

Hersteller
QUINTEL
Modell
Q4000
ID: 293831189
Mask aligner Mercury arc lamp Submicron resolution X, Y Alignment stage Tray loading Splitfield / singlefield optical microscope Topside mask load Substrate size: 4".
QUINTEL Q4000 ist einer der zuverlässigsten und vielseitigsten Maskenausrichter für die fortschrittliche Photolithographie-Verarbeitung integrierter Schaltungen. Diese automatisierte Maschine bietet eine einzigartige Kombination von Funktionen, die sie zum idealen Gerät für die Herstellung von High-End-Halbleiterbauelementen machen. QUINTEL Q 4000 ist mit einer erweiterten Strahldruckkammer ausgestattet, die eine präzise und wiederholbare Belichtung von Photolack ermöglicht. Diese Kammer ist für einen Druck von bis zu 20 bar ausgelegt und eignet sich daher gut für fortschrittliche hochpräzise Verfahren, wie die Sputterabscheidung konformer Folien für MEMS und TSV Strukturen. In der Strahldruckkammer befindet sich auch eine High-End-Quarz-Laserdiode (λ = 260 nm), mit der Belichtungsprozesse mit hervorragender Genauigkeit durchgeführt werden können. Die integrierte Optik nutzt spektral aufeinander abgestimmte Optik, die eine hervorragende Leistung bietet und für optimale Schichtgleichförmigkeit temperaturkompensiert ist. Q-4000 integriert eine Reihe vielseitiger kassettenbasierter Wafer-Handhabungssysteme, die einen präzisen und wiederholbaren geregelten Abstand innerhalb der Druckkammer bieten. Die Maschine ist mit einer fortschrittlichen Auto-Fokussiereinheit ausgestattet, die die Einstellung des Fokus auf die Probenscheibenoberfläche vor dem Belichten des Fotolacks gewährleistet. Das Gerät verfügt über den weltweit fortschrittlichsten Diode-Laser-angeregten ICP-Plasma (DLE-ICP) -Generator, der einen einheitlichen und steuerbaren Ätzprozess bietet, der auf mehrere nichtlineare Profile einstellbar ist. Dieses Laserätzverfahren eignet sich gut für die äußerst komplizierten Strukturen, die in modernen IC-Chips häufig vorkommen, da dieser Ätzprozess in der Lage ist, extrem kleine, tiefe und komplexe Strukturen zu erzeugen. Für fortschrittliche Lithographieverfahren kann Q 4000 mit einer fortschrittlichen Mask-Editor-Maschine kombiniert werden, die eine schnelle und einfache Möglichkeit bietet, komplexe Lithographiedaten mit hochauflösenden Bildern zu konvertieren und zu generieren. Das Mask-Editor-Tool ist sowohl mit abgeflachten als auch mit rundgeformten Maskenformen kompatibel und bietet anspruchsvolle Werkzeuge zur visuellen Verbesserung, um eine genaue Platzierung des Fotolacks zu gewährleisten. Insgesamt ist QUINTEL Q-4000 heute einer der zuverlässigsten und vielseitigsten Maskenausrichter auf dem Markt. Es bietet eine beeindruckende Kombination von Merkmalen, die es gut für die Herstellung von High-End-Halbleiterbauelementen geeignet machen.
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