Gebraucht SVG / PERKIN ELMER / ASML 240 #33408 zu verkaufen

SVG/PERKIN ELMER/ASML 240 Maske Aligner ist eine Hochgeschwindigkeitsausrüstung zur Herstellung hochwertiger Halbleiterprodukte. Es bietet eine fortschrittliche Strukturierung, Ausrichtungsgenauigkeit und Ausrichtungsstabilität und gleichzeitig erhebliche Kosteneinsparungen. Dieses System wurde entwickelt, um elektronenstrahlempfindliche Masken mit höchster Genauigkeit auf Substrate jeder Größe auszurichten. SVG 240 basiert auf einem integrierten modularen Aufbau, der eine einfache Bedienung und kostengünstige Wartungskosten ermöglicht. Es ermöglicht eine schnelle, effiziente und genaue Lithographie von Herstellungsprozessen. Dieses Modell umfasst fortgeschrittene Funktionen wie: zwei separate Arbeitsstufen für kombinierte Lithographie, verbesserte Positionsgenauigkeit und mehrfache punktbasierte Ausrichtung. Die Bewegungsstufe von ASML 240 verfügt über präzise bearbeitete Komponenten und einen Regler mit geschlossenem Regelkreis, der eine genaue und reibungslose Bewegung der Bühne gewährleistet. Der Schrittmotor bietet eine hochgenaue Musterübertragung mit einer Wiederholbarkeit von 2 µm und einem Bereich von 2-20 µm. Die Bewegungsmaschine unterstützt auch die Winkelausrichtung mit einem Hochgeschwindigkeits-Drehtisch und hochpräzisen Drehgebern, um die Genauigkeit zu gewährleisten. Das Design des Maskenhalters bietet eine wiederholbare und zuverlässige Ausrichtung mit einer stationären Genauigkeit von besser als 0,5 µm. Der Maskenhalter akzeptiert eine vollständige Auswahl an Masken, darunter 4 "bis 6", 8 "bis 12" und bis zu 24 "in der Größe. Es unterstützt auch hochentwickelte Masken, die eine Strukturierung, Positionierung und Ausrichtung auf mehreren Ebenen erfordern. Das Tool enthält auch ein erweitertes automatisches Ausrichtungs-KE mit mehreren voreingestellten Parametern, wie: Musterverfeinerung, regelbasierte KE-Erkennung, Overlay-Messtechnik und Ausrichtungsoptimierung. Die Software-Suite ermöglicht es Benutzern auch, aus einer Reihe von Lithographie-Tools auszuwählen, darunter: Bildverbesserung, optische Näherungskorrektur (OPC) und Retikle-Platzierung. Insgesamt ist PERKIN ELMER 240 Mask Aligner ein hocheffizientes und kostengünstiges Asset, das für die Herstellung von Halbleitern verwendet werden kann. Der modulare Aufbau und die integrierten Funktionen machen es zu einer idealen Wahl für fortschrittliche Lithographieanwendungen.