Gebraucht SVG / PERKIN ELMER / ASML 340HT #65071 zu verkaufen

SVG/PERKIN ELMER/ASML 340HT Maske Aligner ist eine vielseitige, hochmoderne Maskierungs- und Lithographieanlage für die Halbleiterherstellung. Es kombiniert die notwendige Belichtungsgenauigkeit mit einem robusten und zuverlässigen Hardwaredesign und sorgt für hohe Ausbeuten in der Lithographiebearbeitung. Das System nutzt eine hochwertige Gate-Matrix zusammen mit seinem einzigartigen Folienbelichtungsprozess, um eine kritische Lithographie-Genauigkeit von 8nm bis 0.5um zu gewährleisten. Das Gerät verfügt über einen voll ausgestatteten Controller, der mehrere Tools mit einer einzigen Benutzeroberfläche steuern kann. Dies ermöglicht eine effizientere Produktion und genauere Ergebnisse. Einzigartige Belichtungsfunktionen der Maschine umfassen tiefe UV (DUV) -Lithographie, fortschrittliche Elektronenstrahlbelichtung und erweiterte Belichtungssteuerung mit dem Einsatz seines fortschrittlichen Belichtungsreglers. Dies sorgt für mehr Präzision bei Mustern und Funktionen, die eine genaue Auflösung erfordern. Das Werkzeug zeichnet sich auch durch eine erhöhte Belichtungsgenauigkeit aufgrund seiner einheitlichen Beleuchtungstechnologie aus. Dies unterstützt eine Vielzahl von Lithographieprozessen, wie kritische Überlagerung, kritische Abstandshalter, kritische Registrierung und kritische Kantenrauhigkeit, sowie spezialisierte Anwendungen wie Kontaktloch und Stanzlithographie. Das Asset ist außerdem äußerst zuverlässig und verfügt über eine Reihe von Funktionen wie keinen vertikalen Bewegungsalarm, einen Bewegungsalarm mit niedriger Geschwindigkeit und eine dynamische Fokuseinstellung. Darüber hinaus verfügt das Modell über eine integrierte Präzisionsstufe, die eine präzise Stufung und Strukturierung großer Flächen mit der geringsten Anzahl von Läufen ermöglicht. Darüber hinaus ist SVG 340HT Mask Aligner auf Flexibilität ausgelegt und für den Einsatz mit einer Vielzahl verschiedener Substrate und Resistmaterialien kompatibel. Die Anlage bietet auch eine automatisierte Prozessabfolge für repetitive Ausrichtprozesse und kann zu verschiedenen Wafer-Handling-Systemen für die Verarbeitung kleiner bis mittlerer Substratchargen konfiguriert werden. Darüber hinaus umfasst ASML 340HT Mask Aligner eine Reihe hochentwickelter CR- und DR-Optionen, die die neuesten Funktionen in der Automatisierung, verbesserten Datenhandhabung und Prozesssteuerung bieten. Das System bietet auch eine komplette Reihe von Diagnosen, einschließlich Tests ohne Download, und vollständige Scan-und Belichtungsaufzeichnung. Insgesamt ist PERKIN ELMER 340HT Mask Aligner eine hochmoderne, anspruchsvolle und vielseitige Einheit für die Halbleiterproduktion. Die Kombination von präziser Auflösung und genauer Belichtungsgenauigkeit sowie überlegenen Zuverlässigkeitskomponenten ist 340HT eine ideale Wahl für Durchsatz und Ausbeute Optimierung.