Gebraucht SVG / PERKIN ELMER / ASML 551 HT #9165929 zu verkaufen

SVG / PERKIN ELMER / ASML 551 HT
ID: 9165929
Wafergröße: 6"
Mask aligner, 6" Process: Litho.
SVG/PERKIN ELMER/ASML 551 HT Maske Aligner ist eine hochmoderne, automatisierte Lithographieausrüstung auf Waferebene zur Strukturierung und Ausrichtung von Schaltkreisen auf Wafern. Es bietet präzise und genaue Belichtungsfunktionen, die Funktionen mit einer Genauigkeit von bis zu 100 nm ermöglichen. Es hat eine kleinere Größe und geringere Kosten als vergleichbare Lithographiesysteme, was es zu einer ausgezeichneten Wahl für die Produktion von Chips mit hohen Stückzahlen macht. Das System verwendet Interferenzmapping, um die Maskenmuster genau auf einem Substrat auszurichten und kann Substrate mit einem Durchmesser von bis zu 6 Zoll aufnehmen. Sie besteht aus einer Lichtquelle, einer Linse, einem die Masken haltenden Schlitzrotor und einem Ausrichtungsdetektor. Der Mask Aligner ist in der Lage, Wafer mit einem minimalen Linien-/Raummuster von 0,5um, einer minimalen Fläche von 0,2um x 0,2um und einer Belichtungswiederholgenauigkeit von 0,1um abzubilden. Die Maschine funktioniert mit Hilfe eines hochpräzisen Motors, der präzise und präzise Bewegungssteuerung liefert. Es besteht aus einem hochauflösenden linearen Codierer, der ein Mittel zur genauen Messung der in der Lithographie verwendeten optischen Berechnungen bietet. Die Einheit kann auch 100mm und 150mm Wafer aufnehmen. Es ist mit einem feinen Verstellmechanismus ausgestattet, der es einfach macht, die Maskenmuster auf das Substrat auszurichten. Die Maschine ist mit einer automatisierten Modell- und Keyframe-Programmierfunktion ausgestattet, die bis zu 20 Schlüssel speichern kann, sodass Benutzer Muster schnell und genau abrufen können. SVG 551 HT Maske Aligner enthält eine Reihe von erweiterten Steuerungsfunktionen, darunter ein 3,5 "LCD-Display, mit dem der Benutzer die Ausrichtungsparameter einfach anpassen kann. Darüber hinaus verfügt das Tool über eine integrierte automatische Kalibrierungsfunktion, wodurch vor jeder Belichtung keine manuellen Korrekturen erforderlich sind. Darüber hinaus umfasst das Asset ein umfassendes Softwarepaket mit einer benutzerfreundlichen grafischen Benutzeroberfläche. Dadurch kann der Anwender schnell und intuitiv die notwendigen Anpassungen am Modell vornehmen. Die Software kann auch zum Speichern programmierbarer Parameter verwendet werden, wodurch die manuelle Neuprogrammierung von Masken für nachfolgende Abläufe eliminiert wird und ein schnelles Abrufen gespeicherter Muster ermöglicht wird. Insgesamt ist ASML 551 HT Maske Aligner eine ideale Wahl für eine Vielzahl von Lithographie-Anforderungen. Es bietet präzise und wiederholbare Belichtungsfunktionen für die Produktion von Hochvolumenchips sowie eine Vielzahl fortschrittlicher Funktionen wie automatisierte Ausrichtung und Kalibrierung.
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