Gebraucht SVG / PERKIN ELMER / ASML 551 HT #9377427 zu verkaufen

SVG/PERKIN ELMER/ASML 551 HT Maske Aligner ist ein Werkzeug in Halbleiter- und Nanotechnologie Herstellungsprozessen verwendet. Es verwendet eine Kombination aus Photolithographie und Präzisionsausrichtung, um das Ätzen von Schaltungen und Merkmalen auf dem Substrat zu ermöglichen. Die Maschine ist in der Lage, eine Ausrichtungsgenauigkeit von weniger als 1 µm bereitzustellen und kann Substratgrößen von 5 "bis 8" im Durchmesser sowie Chipgrößen bis 12 "behandeln. Im Kern besteht der Maskenausrichter aus zwei grundlegenden Teilsystemen: den Stufen, die für die genaue Positionierung von Substraten und Masken relativ zueinander verantwortlich sind; und die Lichtquelle, die für das Belichten des Photolacks auf den Substraten verantwortlich ist. Die Stufen bestehen aus zwei X-Y-linearen Translationsstufen (oder „Tabellen“), die mit zwei Drehstufen verbunden sind. Die beiden Drehstufen drehen sich in einer XY-Ebene mit einer Genauigkeit von 0,007 Grad. Die X-Y linearen Stufen bewegen die Substrate und Masken in drei Dimensionen mit einer wiederholbaren Genauigkeit von besser als 1 µm. Darüber hinaus weisen die Stufen ein Wafer-Lift-System auf, das so ausgelegt ist, dass die Substrate während des Belichtungsprozesses an Ort und Stelle gehalten werden. Die Lichtquelle ist ein Photomasken-Projektionssystem, das in der Lage ist, den Photolack mit bis zu 245 nm ultraviolettem Licht (UV-C) zu beleuchten. Die Lichtquelle hat eine programmierbare UV-C Intensität und Belichtungszeit, die eine Feinsteuerung des Belichtungsprozesses ermöglicht. SVG 551 HT ist ein vielseitiges Werkzeug für die Geräteherstellung. Mit seinen hochpräzisen Stufen und der leistungsstarken Lichtquelle ist der Maskenausrichter in der Lage, Funktionsgrößen bis zu wenigen Mikrometern zu erzeugen. Es kann auch verwendet werden, um Standardlithographiemasken sowie Halbleiterbauelemente wie digitale Logikschaltungen, Speicherchips und Nanotransistoren zu erstellen.