Gebraucht SVG / PERKIN ELMER / ASML 641 HT #9198310 zu verkaufen

SVG / PERKIN ELMER / ASML 641 HT
ID: 9198310
Wafergröße: 5"
Mask aligner, 5" Process: Litho.
SVG/PERKIN ELMER/ASML 641 HT ist ein Maskenausrichter zur Herstellung von hochpräzisen Photomasken. SVG 641 HT wurde als Erweiterung der bestehenden Belichtungssysteme der Serie SVG 641 entwickelt und ist speziell für anspruchsvolle Anwendungen in den Bereichen Elektronik-Fertigungsdienstleistungen (EMS), Photonik und Halbleiter-Präzisionsmaske entwickelt. ASML 641 HT Maske Aligner verfügt über einen integrierten Tester, Vor- und Nachausrichtung Delta Vektor Messfähigkeiten, Plattenspieler Kalibrierung, eine Auto-Nivellierung Ausrichtung Tabelle, und ein 500 Watt Laserbeleuchter für außergewöhnliche Genauigkeit in der Platzierung und Ausrichtung von Photomasken bis zu 6 ". Als Teil des umfassenden Präzisionsmaskenherstellungspakets wird die HT-Version des 641 mit einer zuverlässigen und genauen Belichtungsausrüstung geliefert. Der Masken-Aligner ermöglicht eine Feineinstellung von Belichtungsparametern wie Dosis, Geschwindigkeit und Fokus und ermöglicht eine semiautomatisierte und/oder manuelle Programmierung von Mappings oder Wafern zur photomaskierten Ausrichtung zur Herstellung komplexer mehrdimensionaler Präzisionsphotomasken. Die HT-Version der ASML 641-Serie hebt die Präzisionsmaske mit einem äußerst zuverlässigen, effizienten und wiederholbaren Ausrichtsystem auf ein neues Niveau. Das Gerät verfügt über fortschrittliche Technologie und Funktionen, die eine höhere Genauigkeit in der Ausrichtung ermöglichen, einschließlich eines Linearmotorantriebs, der eine Maskenstufe bis zu ± 30 Millisekunden schnell bewegen kann. Diese Motoren ermöglichen es der Maschine auch, sich nach jeder nichtlinearen Bewegung automatisch neu zu kalibrieren. Das Tool verfügt über eine neunachsige, in der Ebene ausgerichtete Rückkopplungsschleife sowie eine XY-Feldüberwachung, die Vibrationen minimiert und die thermische Drift reduziert, um die Genauigkeit der Ausrichtung jederzeit sicherzustellen. Das HT-Modell umfasst auch vollständig integrierte Retikel- und Bandverarbeitungsfunktionen für die Retikel- und Waferausrichtung. Das Modell ist in der Lage, Multi-Grid-Reticles mit Kantenregistrierung für bis zu vier verschiedene Raster unterzubringen und ist in der Lage, die komplexesten Reticles zur Herstellung von hochmodernen Photomasken aufzunehmen. Darüber hinaus ist das Gerät auch in der Lage, hochvolumige Bandzuführer zu verarbeiten, um Maske zu Wafer-Matching unterzubringen. PERKIN ELMER 641 HT ist ein vielseitiger, fortschrittlicher, benutzerfreundlicher und extrem genauer Maskenausrichter, der für die anspruchsvollsten Anforderungen an die Herstellung von Fotomasken entwickelt wurde. Mit seiner fortschrittlichen Technologie und seinen Eigenschaften ist das HT-Modell in der Lage, hochpräzise Photomasken mit sehr kurzen Durchlaufzeiten zu produzieren, um den Anforderungen der EMS-, Photonik- und Halbleiterindustrie gerecht zu werden.
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