Gebraucht SVG / PERKIN ELMER / ASML 641 #9105485 zu verkaufen

SVG/PERKIN ELMER/ASML 641 Maske Aligner ist ein hoch fortgeschrittenes Stück optische Profilierung Ausrüstung, die für die Herstellung von genauen Sub-Mikron und Nanoskala integrierte Schaltungen konzipiert ist. Dieses Gerät verwendet eine Kombination aus fortschrittlicher optischer Bildgebung, Musterplatzierung und Ausrichtung, um eine überlegene Auflösung und Geschwindigkeit zu bieten. Das System verfügt über eine 5-achsige, 6 x 2 Zoll Ausrichtungsstufe zur präzisen Musterplatzierung auf Maske und Substrat. Es hat einen 5 Zoll (127 mm) optischen Weg für maximale Auflösung und Fokus, eine proprietäre ausgerichtete Beleuchtungseinheit, die Flachfeldbeleuchtung erzeugt, ein Abwärtslicht in den Beleuchter und eine On-Axis-Abbildungsoptik für unübertroffene Details und Fokus. Die Maschine bietet auch die Flexibilität, entweder eine Einzel- oder Batch-Muster-Platzierung mit Genauigkeit bis zu 0,1 Mikron und bis zu 1 Mikron zu produzieren. SVG 641 Maske Aligner bietet erweiterte Bildgebungsfähigkeit. Es verfügt über eine Hochleistungs-Bildverarbeitungsstufe, die für ein klares und detailliertes Bild für alle Musterplatzierungen sorgt. Zur präzisen Bildaufnahme und Ausrichtung ist auch ein optimiertes Bildgebungs- und Modusausrichtungswerkzeug vorgesehen. Dieses Asset wurde entwickelt, um die höchstmögliche Auflösung und Genauigkeit aus den Masken zu erzeugen. Das Modell ist mit einer Reihe von Funktionen ausgestattet, um maximale Produktivität und Genauigkeit zu gewährleisten. Es verfügt über ein In-Field-Kalibriergerät für maximale Messgenauigkeit, ein intelligentes Vision-Leitsystem und einen patentierten Design-Optimierer, der die Geräteparameter automatisch optimiert. Die Maschine verfügt außerdem über eine benutzerfreundliche grafische Benutzeroberfläche und kann sich zur Fernbedienung und Überwachung mit einem Netzwerk oder Computer verbinden. ASML 641 Maske Aligner ist ein ideales Werkzeug für die Konstruktion und Herstellung integrierter Schaltungen. Die ultrahochauflösende Bildgebung und die Platzierung von Mustern machen es zu einem unschätzbaren Werkzeug für die Entwicklung fortschrittlicher Präzisionsschaltungen. Es bietet mehr Flexibilität und Genauigkeit als Standard-Lithographiesysteme und gewährleistet gleichzeitig höchste Effizienz und Genauigkeit.