Gebraucht SVG / PERKIN ELMER / ASML 651HT #293605029 zu verkaufen

SVG/PERKIN ELMER/ASML 651HT Mask Aligner ist eine hochpräzise Ausrüstung zur Herstellung integrierter Halbleiterschaltungen und integrierter optischer Systeme. Das System dient dazu, ein Retikel auf einer Fotomaske genau zu positionieren und zwei oder mehr Schichten aus gemustertem Maskenmaterial genau auszurichten und so eine großflächige Struktur gewünschter Geometrien und Komplexität zu schaffen. Die Einheit kombiniert laserinterferometrische Ausrichtung und hochpräzise Schrittmotor- und Abbildungsoptik, um eine Ausrichtungsgenauigkeit von weniger als 0,15 μ m (bei 10 σ) über einen 450-mm-Wafer und einen Retikelbereich zu erreichen. Die Maschine verfügt über ein großes und anpassbares Sichtfeld für die Nanofabrikation und Ausrichtung großer Substrate und Retikel, mit Optik, einem Retikel-Lade- und Austauschwerkzeug und Filmscanner. Das horizontale und vertikale Sichtfeld für die Anlage beträgt ± 30 mm für die Retikel bzw. ± 200 mm für die Wafer. Inzwischen beträgt der Bereich der Ausrichtabstände 0,02 μ m - 5,6 mm, eingestellt mit linearer 5 μ m Auflösung. Das Modell ist auch gut mit Bilderfassungstechnologie ausgestattet und bietet die Möglichkeit, wiederholbare und genaue Höhen- und Ausrichtungskarten zu erstellen. Es speichert auch Pixelhöhen- und Ausrichtungsdaten und unterstützt den Datenexport auf externe PCs oder Datenbanken. Darüber hinaus unterstützt das Gerät die Integration mehrerer Laserquellen, eine verbesserte Fotomaskenausrichtung, Abscheiderate und Overlay-Genauigkeit durch die Verwendung einer Kombination aus sichtbarer und ultravioletter (UV) Bildgebung. SVG 651HT soll auch die Integration fortgeschrittener Korrekturalgorithmen erleichtern, einschließlich Autofokus-Korrektur und Zentrum der Mustererkennung (COPR). Es bietet Funktionen zur automatischen Fokussierung, Ausrichtung und Lebensdauerüberwachung, die es zu einer idealen Wahl für fortgeschrittene Produktionsprozesse machen. Der automatisierte Retikelaustausch ermöglicht ein schnelles und effizientes Tauschen von Retikeln und erleichtert Prozesse mit mehreren Retikeln. Insgesamt ist ASML 651 HT Mask Aligner ein vielseitiges und präzises Werkzeug zur Herstellung integrierter Halbleiterschaltungen und integrierter optischer Systeme. Es verfügt über eine große Auswahl an Ausrichtungsabstandsoptionen, ein großes Sichtfeld und eine breite Palette an bildgebenden Technologien und Korrekturalgorithmen, um Genauigkeit und Effizienz zu gewährleisten.