Gebraucht SVG / PERKIN ELMER / ASML 651HT #9399540 zu verkaufen
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ID: 9399540
Mask aligner
HG Lamp uniformity high: >13%
Scan speed low: 0.34"/s
Frequently unit: Arm stuck
Reworked unit: Assembly gear unit
Motor and gear assembly
Vacuum cups
Air gauge: Auto focus calibration
Offset evaluation: Nozzle
OPC 121: 480 µm
Wafer screws adjustment: 89 cm, -34cm, 163cm
OPC 122: -2.1 µm
Focus coarse adjustment:
OPC 11: -9.5 µm
0.7µm/cm -0.1µm/cm
Open slit unit: 4.9% (13%)
Scan speed: 0.55”/s - 1.045"/s
Input elevator (Height and flag adjustment)
PCB Labelled: Right and left hand card cage
Parameter: OPC 240: -4PPM, 2304: 0 -0.25, -0.1 µm.
SVG/PERKIN ELMER/ASML 651HT ist ein Hochleistungsmasken-Aligner, der speziell für sehr hohe Durchsatz-Wafer-Stepper-Anwendungen entwickelt wurde. Es verfügt über einen eingebetteten Mikrocontroller mit Pentium-Prozessor sowie einen integrierten Hochgeschwindigkeits-Speichercontroller und einen seriellen Hochgeschwindigkeits-Kommunikationsport. SVG 651HT verfügt über eine Vielzahl von Funktionen, darunter einen Hochgeschwindigkeits-Mechanismus zur optischen Ausrichtung, der eine genaue Ausrichtung von Masken und Substraten gewährleistet. Der Mechanismus besteht aus zwei Positionierern, die auf zwei unabhängigen Stufen montiert sind, wobei die erste für die schnelle Bildgebung und die zweite für die Feineinstellung verwendet wird. Die fein abgestimmte Optik von ASML 651 HT trägt dazu bei, die Belichtungszeiten signifikant zu reduzieren. Die in 651HT integrierte zweistufige Ausrichtung umfasst auch eine einzigartige Mikroskop-Bildgebungsplattform, die eine Vielzahl von Konfigurationen von Masken und Substraten ermöglicht. Das Mikroskop ist mit einem antistatischen Schutz ausgestattet, um zu verhindern, dass sich Partikel an dem empfindlichen elektrostatischen Futter befestigen, und die bildgebende Ausrüstung ist empfindlich genug, um auch einzelne Mikron-Merkmale auf einem Wafer zu erkennen. 651 HT verfügt über leistungsstarke Autofokusfunktionen, die es ihm ermöglichen, den Wafer kontinuierlich auf einen Mikron zu erkennen, zu messen und neu zu fokussieren. Darüber hinaus verfügt das System über eine integrierte hochpräzise Ausrichtungsplattform, mit der Anwender eine große Anzahl komplexer Belichtungen ohne zeitaufwändige Neukalibrierung schnell anpassen können. Die flexible Softwareplattform PERKIN ELMER 651 HT ermöglicht es Benutzern auch, eine Vielzahl von vordefinierten oder benutzerdefinierten benutzerdefinierten Parametern zu erkunden. Eine leistungsstarke Funktion beinhaltet die Möglichkeit, Belichtungsbereich zu bewegen, um Lithographie-Kontrolle zu verbessern und Geräteproduktionszyklen zu optimieren. Die gesamte Einheit kann einfach über eine textbasierte Befehlsschnittstelle bedient werden. SVG 651 HT wurde für Belichtungsprozesse mit geringer Befestigung konzipiert, und sein abgedichtetes Gehäuse hilft, Verschmutzungen der Optik zu verhindern. Darüber hinaus ist sein robuster Körper aus hochwertigen, temperaturbeständigen Materialien aufgebaut und auch stoßfest, in der Lage, hohen Vibrationen und ESD-Stößen standzuhalten. SVG/PERKIN ELMER/ASML 651 HT ist eine zuverlässige und effiziente Wafer-Stepper-Maschine, die schwierige und genaue Lithographie-Prozesse auch bei hohen Geschwindigkeiten und Durchsätzen durchführen kann. Das hoch fortgeschrittene Design ermöglicht ASML 651HT, durchweg hohe Leistung und Genauigkeit in einer breiten Reihe von komplizierten Aussetzungsprozessen zu liefern, es ein ausgezeichnetes Werkzeug für die Hochleistungssteindruckproduktion machend.
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