Gebraucht SVG / PERKIN ELMER / ASML 661 #9003993 zu verkaufen

SVG / PERKIN ELMER / ASML 661
ID: 9003993
Wafergröße: 6"
Mask aligner, 6".
SVG/PERKIN ELMER/ASML 661 ist ein Masken-Aligner, ein Maschinentyp zur Durchführung der Lithographie. Es ist so konzipiert, dass es ein genaues, effizientes und kostengünstiges Gerät ist, das für verschiedene lithografische Aufgaben verwendet werden kann. SVG 661 Maske Aligner hat ein lineares Bühnenbild, das das Gerät klein und kompakt macht und gleichzeitig Präzision und Genauigkeit bietet. Es kann bis zu 5.000 nm bei einem Fehler von +/- 1,0 nm für die 3-dimensionale (3D) Ausrichtung und +/- 0,5 nm für die 2-dimensionale (2D) Ausrichtung erreichen. Es ist auch in der Lage, die Position der Bühne ohne den Einsatz von Luftlagern einzustellen, was bedeutet, dass es eine hohe Präzision auch bei der Stufenverstellung beibehalten kann. ASML 661 verfügt über eine fortschrittliche Lichtquellenausrüstung, die 940 nm Diodenlaser verwendet und verwendet werden kann, um Wafer bis zu 100mm Größe freizulegen. Es hat auch ein Steuerungssystem, das entsprechend den Anforderungen des Kunden angepasst werden kann. Beispielsweise kann die Einheit mit proprietären Algorithmen programmiert werden, um die Effizienz zu maximieren, ohne auf Genauigkeit zu verzichten. Das Gerät verfügt auch über eine vollautomatische Ausrichtmaschine, die die Maske auf dem Wafer leicht erkennen und abbilden kann. Der Aligner verwendet auch optionale On-Wafer-Ausrichtung, die es dem Benutzer ermöglicht, Mikrometer und Nanometer Pegelanpassungen vorzunehmen, ohne die Bühne manuell drehen zu müssen. Schließlich ist der Maskenausrichter 661 auch mit einem Verschmutzungsmonitor ausgestattet, der den Benutzer benachrichtigt, wenn das Werkzeug mit Staub oder Schmutz verunreinigt ist. Diese Funktion trägt dazu bei, dass das Gerät sauber bleibt und qualitativ hochwertige Ergebnisse liefert. PERKIN ELMER 661 Maske Aligner ist ein fortschrittliches Gerät, das erhöhte Geschwindigkeit, Genauigkeit und Effizienz bietet. Es kann für eine Vielzahl von lithographischen Aufgaben verwendet werden, und seine erweiterten Funktionen ermöglichen eine höhere Präzision Ergebnisse.
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