Gebraucht SVG / PERKIN ELMER / ASML 661 #9210321 zu verkaufen

SVG/PERKIN ELMER/ASML 661 ist ein fortschrittliches Wafer-Ausrichtungswerkzeug, das für eine hochpräzise Maskenregistrierung und -überlagerung bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen entwickelt wurde. Das Gerät kombiniert die Präzision der SVG-E-Beam-Lithographie mit der Genauigkeit der optischen ASML-Projektionsbildgebung. SVG 661 enthält sowohl Single-Pass als auch Double-Pass-Optionen, sodass Benutzer den erforderlichen Grad an Ausrichtungsgenauigkeit auswählen können. Das schrittförmige Waferausrichtungssystem verwendet eine erweiterte grafische Benutzeroberfläche (GUI), um die genaue Ausrichtung vordefinierter Muster auf dem Substrat schnell zu ermitteln. ASML 661 enthält auch eine Spracherkennungseinheit, die Parameter automatisch anpasst und Substrate an vordefinierten voreingestellten Positionen ausrichtet. Die Maschine verfügt über ein hochauflösendes optisches Gehäuse, ein bildgebendes Werkzeug und eine Präzisionsstufe. Die Optik dient dazu, die Oberfläche des Wafers zu visualisieren und sicherzustellen, dass alle Ausrichtungspunkte genau ausgerichtet sind und im zulässigen Bereich liegen. Das bildgebende Gut besteht aus einer Elektronenstrahlquelle mittlerer Energie und einer Elektronenstrahlquelle niedriger Energie. Der Niederenergiestrahl dient zur Charakterisierung zur Erkennung von Fehlern und Defekten im Substrat vor dem E-Strahl-Lithographieverfahren. Die Präzisionsstufe von 661 besteht aus einer X-, Y- und Z-Achse, die präzise Bewegungen bei der E-Beam-Lithographie und der Mustererfassung ermöglicht. Die Bühne umfasst außerdem eine servogesteuerte Sonde und eine feine Bewegungsachse. Die feine Bewegung ermöglicht schnelle und genaue Positionskorrekturen bei Bedarf. PERKIN ELMER 661 hat einen hohen Durchsatz und hohe Genauigkeit, mit Overlay-Wiederholbarkeit bis zu 3,5 Nanometer. Das Modell umfasst auch ein automatisches Inspektionswerkzeug, um die Zuverlässigkeit der Registrierung und des Overlays sowie die automatische Registrierung aller lithographisch gedruckten Formen und Merkmale zu gewährleisten. SVG/PERKIN ELMER/ASML 661 ist kompatibel mit einer Vielzahl von Photomasken und Substratmaterialien und eignet sich für eine Vielzahl von Anwendungen, einschließlich Mikroelektronik, Displays und MEMS-Komponenten. Diese Ausrüstung ist ideal für Halbleiterhersteller und Bauelementintegratoren, die auf der Suche nach hoher Geschwindigkeit und präziser Ausrichtung komplexer Muster auf Wafern sind.