Gebraucht SVG / PERKIN ELMER / ASML 664 HT #9165930 zu verkaufen

SVG/PERKIN ELMER/ASML 664 HT Maske Aligner ist ein modernes Ausrichtwerkzeug für Mikrofabrikationsprozesse. Es ist ein Hybrid-Lithographie-Gerät, das Photolithographie (Maskenausrichtung) mit Elektronenstrahl-Lithographie (Musterung) für Submikron-Musterung von Materialien kombiniert. SVG 664 HT Maske Aligner ist ein halbautomatisches Tischsystem, das eine X-Y Translationsstufe und zwei rotierende Stufen zur Feinausrichtung von gemusterten Masken auf das Substrat verwendet. Ein invertiertes Mikroskop am Gerät ermöglicht es dem Benutzer, die Ausrichtungs- und Musterposition visuell zu bestätigen. Eine Ausrichtungsgenauigkeit von besser als 4 µm in ± 90 ° und eine Winkelgenauigkeit von 3 ° sind typisch bei der Verwendung von ASML 664 HT Maske Aligner. Die Maschine umfasst einen separaten Elektronenstrahlmusterabschnitt mit drei Säulenanordnungen. Die Elektronenstrahl-Schreibsäule besteht aus einem Steuermodul, einem Mikrokanal-Plattendetektor, einer Projektionslinse und einer X-Y-Ausrichtstufe. Ein separates Arbeitsabstandsregelmodul ermöglicht die Anpassung an die vertikale Positionierung von Probe und Maske. Die E-Strahlsäule kann für Anwendungen wie Elektronenstrahl-Lithographie, Resist-Writing oder Musterreparatur verwendet werden. Das Werkzeug ist mit einer Lichtquelle mit einer Spaltlichtquelle für unterschiedliche Schlitzgrößen und Punktgrößen ausgestattet. Es eignet sich für die Verwendung von häufig verwendeten Masken wie Chrommasken mit Transmission und Reflexionsmodus. Das integrierte Design ermöglicht eine schnelle und effiziente Maskenausrichtung zur Präzisionsmusterung. Die gemusterten Masken können mit einem digitalen Bildprojektions-Asset auf 664 HT geladen werden. Der Benutzer kann Bilder der Maske auf das Modell laden und die Maske wird dann automatisch ausgerichtet. Einmal richtig ausgerichtet, kann die Maske mit einer Antireflexbeschichtung versiegelt werden. PERKIN ELMER 664 HT bietet auch erweiterte Automatisierungsfunktionen wie automatisierte Maskenauswahl, Fokussierungsscannung und Ausrichtungsoptimierung. Die Ausrüstung ermöglicht eine schnelle und genaue Strukturierung mit sehr hochauflösenden Ergebnissen. SVG/PERKIN ELMER/ASML 664 HT ist ein vielseitiges und zuverlässiges maskiertes Ausricht- und Lithographiesystem, das eine Präzisionsplattform für viele fortschrittliche Lithographieanwendungen bietet. SVG 664 HT ist mit seinem breiten Leistungsspektrum und seiner einfachen Bedienung die perfekte Wahl für die Hightech-Labore und Fertigungsanlagen.