Gebraucht SVG / PERKIN ELMER / ASML 751 HT #293615179 zu verkaufen

SVG/PERKIN ELMER/ASML 751 HT ist ein Masken-Aligner für die Deckschicht- und Kontaktschicht-Lithographie. Die Maschine verwendet Ultra-Hochvakuum-Umgebung und Belichtungsoptik, um Sub-Mikrometer-Genauigkeit zu erreichen, die die minimale Funktionsgröße ist, die die Ausrüstung reproduzieren kann. Die Kontaktbelichtungszeit ist von 2 bis 200 ms einstellbar, während die Deckschicht-Belichtungszeit von 5 bis 500 ms einstellbar ist. Zusätzlich verfügt das System über Autofokus, Stigmator und automatische Belichtung, um eine optimale Ausrichtung, Belichtung und Fokus während des Lithographieprozesses zu gewährleisten. SVG 751 HT aligner verfügt über eine Dual-Source-Einheit für Deckschicht und Kontaktschicht. Es hat ein 300 mm Futter mit Schlitzen für Abdeckung und Kontaktmaske Leerhalter, und kommt mit einem 300 mm Luke Halter in der Lage, große Mengen von Substraten zu handhaben ausgestattet. Der Wafer steht in Kontakt mit einem genauen Vakuum. Dies hält den Wafer in Bewegung und gewährleistet eine präzise Ausrichtung bei der Belichtung. Die Maschine ist mit quarzbasierten Projektionsoptiken ausgestattet, die einen hohen Durchsatz, geringe Geräusche und geringe thermische Obsoleszenz aufrechterhalten haben. Neben der Quarzoptik verfügt die Maschine auch über eine Rahmenverschlussmaschine mit einstellbarer Geschwindigkeit, die dem Anwender die Kontrolle über Belichtungszeiten und Leistung während der Lithographie ermöglicht. Die Feldabflachungslinse hilft auch bei der Aufrechterhaltung eines flachen Feldes während des Belichtungsprozesses. ASML 751 HT verfügt über ein automatisiertes Prozesssteuerungstool, das Fortschritte in der elektronischen Bildverarbeitung und Robotersteuerung nutzt. Dies ermöglicht eine präzise Ausrichtung und wiederholbare Belichtungsergebnisse. Es bietet dem Anwender auch Flexibilität im Betrieb, die die Möglichkeit bietet, verschiedene Belichtungsprozesse ohne manuelle Beobachtung oder Korrektur durchzuführen. Die Maschine verfügt auch über eine fortschrittliche Substrathandhabung, die Lastschlösser, Waferkäfige und Unterdrückung der Basisvibrationen verwendet, um eine Reinraumumgebung zu gewährleisten und Partikelverunreinigungen zu verhindern. Die optionale Inline-Partikelüberwachung ermöglicht dem Anwender die Überwachung und Steuerung der Substratverschmutzung. Die Betriebsbedingungen von PERKIN ELMER 751 HT werden durch eine Reihe von Alarmen und anderen Auslesungen überwacht. Diese Alarme ermöglichen es dem Benutzer, unverzüglich über Änderungen oder Probleme informiert zu werden, die die Genauigkeit oder Integrität des Lithographieprozesses beeinflussen können. Dadurch kann der Benutzer Probleme schnell beheben und mögliche Schäden minimieren. 751 HT ist ein hochgenauer, kostengünstiger und zuverlässiger Maskenausrichter, der speziell für den Einsatz in der Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Es bietet Anwendern die Möglichkeit, Lithographie von höchster Präzision und Genauigkeit zu produzieren und gleichzeitig eine sichere und kontrollierte Arbeitsumgebung mit minimalem Wartungsaufwand zu bieten.