Gebraucht SVG / PERKIN ELMER / ASML 761 HT #9265344 zu verkaufen

SVG / PERKIN ELMER / ASML 761 HT
ID: 9265344
Wafergröße: 6"
Weinlese: 2003
Mask aligners, 6" 2003 vintage.
SVG/PERKIN ELMER/ASML 761 HT ist ein Maskenausrichter, der in der Photolithographie zur Herstellung integrierter Schaltungen verwendet wird. Das Gerät verfügt über einen ultravioletten (DUV) Laser mit kurzer Wellenlänge und eine sechsachsige Gantry zur Handhabung und Ausrichtung einer Vielzahl von Substraten und flexiblen Masken. SVG 761 HT bietet eine hohe Ausrichtungsgenauigkeit und Präzision über einen großen Bereich von Größen und Sichtfeld und eine Reihe automatisierter Funktionen, um schnelle und zuverlässige Experimente zu ermöglichen. ASML 761HT ermöglicht die Herstellung von integrierten Schaltungen mit einer Mindesteigenschaftsgröße von 0,3 Mikron in den unterschiedlichsten Abmessungen. Es verfügt über einen 6-Achsen-Gantry, wo die'X','Y 'und 3 Winkelachsen verwendet werden, um die Maske und das Substrat genau auszurichten. ASML 761 HT hat auch einen 19-Mikron-Spotlaser, der verwendet wird, um die Maske und das Substrat auszurichten. Das System verfügt außerdem über ein abnehmbares TTL-Objektiv, das je nach gewünschter Funktionsgröße ausgetauscht werden kann. Der 4-Positionen-Ausrichttisch ermöglicht eine schnelle und genaue Einrichtung von Substrat und Maske. Die Servoelektronik des Geräts bietet eine präzise Steuerung und Rückmeldung an das Portal, so dass es sich mit hoher Genauigkeit und Wiederholbarkeit bewegen kann. Darüber hinaus können SVG/PERKIN ELMER/ASML- 761HT im Vakuum oder in der Luft eingesetzt werden, was Flexibilität während der Einrichtung und des Betriebs ermöglicht. SVG 761HT Maschine verwendet eine LAM (Laser Alignment Marking) Methode, die verwendet wird, um Maskenformregistrierung und Substrattopographie zu bestimmen. LAM besteht aus einer zeilenweisen maskenschriebenen Belichtung, gefolgt von einer Sekundärbelichtung, bestehend aus einer Laserbelichtung, die das Substrat markiert. Der Laser belichtet den Bereich, den die Maske nicht blockiert - und sorgt damit für eine genauere Ausrichtung als herkömmliche Methoden. 761HT enthält auch ein hochauflösendes Vision-Tool für Makroausrichtungsaufgaben. Diese Anlage verwendet ein telezentrisches Optikmodell und hochempfindliche CCD-Kameradetektoren, um Genauigkeit und Präzision zu gewährleisten. Das Gerät kann bis zu 128 Referenzpunkte erkennen und ausrichten, was schnelle und zuverlässige Experimente ermöglicht. Darüber hinaus verfügt PERKIN ELMER 761HT auch über mehrere Sicherheitsmerkmale. Das System verfügt über leichte Vorhänge für die Bedienersicherheit und eine automatisierte Reinigungseinheit, um Staub und Schmutz an den Bearbeitungskomponenten zu reduzieren. Darüber hinaus verfügt der Computer über eine automatisierte Funktion zur Diagnose am Ende der Ausführung, um die Leistung zu überwachen und die Betreiber auf Probleme hinzuweisen. 761 HT ist ein ideales Werkzeug für Photolithographie-Anwendungen, die hohe Präzision und Genauigkeit erfordern. Es bietet eine breite Palette von Funktionen und Funktionen, um schnelle und zuverlässige Experimente zu ermöglichen.
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