Gebraucht SVG / PERKIN ELMER / ASML M 761 #9072094 zu verkaufen

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SVG / PERKIN ELMER / ASML M 761
Verkauft
ID: 9072094
Wafergröße: 6"
Mask aligner, 6" Wafer type: Semi flat Cassettes: Fluoroware Version dash -003 Auto-fine-alignment (AFA) Automatic variable magnification (AVM) Alarm and signal tower Auto-uniformity-slit Helium management system (HMS) Aim system Motorized carousel arm with enhanced control option Pick and place wafer transport system (PAL) Mini-mag strong shell Hardware options: Aim Computer Type: Pentium (Y2K Compliance) Power Supply: 230 Vac, 50 Hz, 1 Phase Fan-coil-unit (FCU): Inlet Air Automation: Optional.
SVG/PERKIN ELMER/ASML M 761 ist ein Maskenausrichter, der verwendet wird, um genaue, hochpräzise Photomasken für die Herstellung von mikroelektronischen Geräten zu erstellen. Es handelt sich um ein Gerät, das aus mehreren Modulen und Komponenten besteht: dem Maskenausrichttisch, dem Belichtungssystem, einer Lichtquelle und einer mehrachsigen Steuereinheit. Der Maskenausrichttisch ist so konzipiert, dass er eine solide Plattform bietet, die sowohl für X-Y- als auch für Sub-Mikrometer-Z-Achsen-Bewegungen präzise eingestellt werden kann. Es bietet auch eine Ebene der Maskenplatzierung Genauigkeit, die wesentlich ist, um eine qualitativ hochwertige Photomaske zu produzieren. Der Ausrichttisch kann sowohl eine Maske als auch einen Wafer während des Ausrichtvorgangs tragen. Die Belichtungsmaschine besteht aus einer beweglichen Optik, einer Lichtquelle und einer vakuumdichten Kammer. Die Optik des Werkzeugs dient dazu, die elektronischen Muster der Maske exakt auf den Wafer zu projizieren. Die Lichtquelle für SVG M 761 ist eine Ultra-Hochleistungs-Xenon-Lampe, die eine helle Beleuchtung für die Belichtung kleiner Muster bietet. Die vakuumdichte Kammer umschließt die Belichtungsoptik, um sicherzustellen, dass die Belichtung nicht durch Staub oder Verunreinigungen in der Umwelt verunreinigt wird. Das mehrachsige Steuermodell ermöglicht es dem Ausricht- und Belichtungsgerät, sich nahtlos in alle Richtungen zu bewegen. Darüber hinaus verfügt die Steuerung über eine Computerschnittstelle, die eine einfache und benutzerfreundliche Bedienung der Einheit ermöglicht. Die Maschine hat die Fähigkeit, die Maske-zu-Wafer-Ausrichtung genau zu überwachen und zu steuern, um eine Präzision der Submikrometer-Auflösung zu erreichen. Die Kombination dieser Merkmale macht ASML M 761 zu einem unverzichtbaren Werkzeug für die Herstellung fortschrittlicher Masken, die in der mikroelektronischen Geräteherstellung eingesetzt werden. Es ist in der Lage, qualitativ hochwertige Photomasken mit minimalem Abfall und maximaler Effizienz zu produzieren. PERKIN ELMER M 761 bietet auch ein hohes Maß an Anpassung und Anpassungsfähigkeit. Es ist kompatibel mit einer Vielzahl von Lichtquellen, Belichtungszeiten und Maskengrößen, so dass es für fast jede Anwendung geeignet ist. Mit seiner Benutzerfreundlichkeit und hohen Leistung ist M 761 einer der zuverlässigsten und bewährtesten Maskenausrichter, die derzeit erhältlich sind.
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