Gebraucht SVG / PERKIN ELMER / ASML Micralign 550 #128870 zu verkaufen

SVG / PERKIN ELMER / ASML Micralign 550
ID: 128870
Projection mask alignment system.
SVG/PERKIN ELMER/ASML Micralign 550 mask aligner ist ein hochmodernes Ausrichtsystem der SVG. Es ist für den Einsatz in modernen Technologieanwendungen wie der Herstellung von Halbleiterbauelementen, Optoelektronik, Mikroelektronik und anderen Branchen konzipiert, in denen eine genaue Ausrichtung der Merkmale erforderlich ist. SVG Micralign 550 verfügt über eine X-Y-Stufe mit einer Arbeitsfläche von 200 mm x 200 mm, einem Sichtfeld von 0,2 mm und einer Wiederholbarkeit von 0,02 mm in X und Y. Es kann mit Geschwindigkeiten von bis zu 2,5 m/s laufen und hat eine Wiederholbarkeit von 0,002 in/s. Die Stufe ist mit vakuumbetätigtem Spannfutter für die Bearbeitung auf Waferebene ausgestattet. Darüber hinaus verfügt die Maschine über einen bidirektionalen Servomotor mit einstellbarer Drehmomentregelung und einen Linearcodierer zur nicht sichtbaren Ausrichtung. ASML Micralign 550 wurde entwickelt, um mit einer Reihe von verschiedenen Technologien, einschließlich Helium-Ionen, E-Strahl, optische und Laser-Lithographie verwendet werden. Es unterstützt auch Deep-UV- und Ultra-Violett-Verarbeitung sowie Kontakt- und Näherungsausrichter. Eine umfassende Suite von Software-Tools und Zubehör ist im Lieferumfang enthalten, so dass Benutzer die Maschine vollständig programmieren und überwachen können. PERKIN ELMER Micralign 550 bietet eine zuverlässige, wiederholbare und genaue Plattform für die Ausrichtung jedes Musters, vom komplexesten bis zum einfachsten. Es ermöglicht die Erzeugung von funktionsreichen Masken und Wafern mit präzisen Ausführungszeiten und hohen Genauigkeitsanforderungen. Durch die Optimierung des Workflows erzielt die Maschine hohe Erträge und Durchsätze und senkt gleichzeitig die Produktionskosten. Zudem ist die Maschine energieeffizient, mit geringen Betriebskosten und minimalen Ausfallzeiten. Micralign 550 ist eine ideale Ausrichtungslösung für Anwender fortschrittlicher Technologieanwendungen. Es ist hochgenau, effizient und zuverlässig und bietet Anwendern eine ausgezeichnete Plattform für die Herstellung von hochwertigen, detaillierten Masken und Wafern.
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