Gebraucht SVG / PERKIN ELMER / ASML Micralign 600 #9357224 zu verkaufen

SVG/PERKINELMERSVG/PERKIN ELMER/ASML Micralign 600 Maske Aligner ist eine vollautomatisierte, leistungsstarke Ausrichtungsausrüstung, die für hybride Photolithographieanwendungen verwendet wird. Es ist ein Lithographiesystem, das eine Mehrwellenlängen-Projektionseinheit verwendet, um optisch aufgenommene Muster oder Formen aus einer Fotomaske auf ein Substrat zu projizieren. Dies ermöglicht die Herstellung hochpräziser Halbleiterbauelemente. Automatisierte Ausrichtung und schnelle Musterleistung machen die Maschine ideal für Anwendungen wie industrielle Schaltkreisproduktion, medizinische Geräteherstellung und Halbleiterchipherstellung. Der Motor des Werkzeugs ist ein Doppelwellenlängenvorsprungsanordnungsvermögenswert. Es ermöglicht die gleichzeitige Beleuchtung mehrerer Referenzpunkte auf der Maske und dem Substrat. Photomasken werden auf einer 6-Achsen-Ausrichtstufe montiert, die eine schnelle und genaue Ausrichtung der Maskenmuster auf das Substrat ermöglicht. Es verwendet einen dreidimensionalen ersten prinzipiellen Ausrichtungsansatz, so dass eine präzise Ausrichtung an jeder Stelle des Substrats erreicht wird. Das Modell umfasst Präzisions-Piezo-Stufenantriebe, die eine Positioniergenauigkeit von 1 Mikrometer oder besser liefern können. SVG Micralign 600 umfasst eine hochpräzise Musterquelle, eine konsistente Beleuchtung und eine fortschrittliche Laserinterferometer-Ausrüstung zur Feinabstimmung der Musterskalierung und -auflösung. Die Kombination all dieser Funktionen führt zu einer deutlich verbesserten Registrierungsgenauigkeit gegenüber Legacy-Alignern. Es ist mit einer Vielzahl von optionalem Zubehör und Softwareprogrammen zur Modelldatenerzeugung, -ausrichtung und -analyse ausgestattet. Diese optionalen Systemkomponenten ermöglichen eine hochpräzise Implementierung von Anwendungen wie Messtechnik, Overlay-Ausrichtung, Fehlerinspektion, Druckrückstandsanalyse usw. ASML/PERKINELMERASML Micralign 600 Maske Aligner ist eine fortschrittliche und effektive Einheit, die zuverlässige Genauigkeit für anspruchsvolle Photolithographie-Anwendungen bietet.