Gebraucht SVG / PERKIN ELMER / ASML Micralign 640 #128871 zu verkaufen

SVG/PERKIN ELMER/ASML Micralign 640 ist ein anspruchsvoller Masken-Aligner mit fortschrittlichen Funktionen, die die präzise und wiederholbare Ausrichtung von Elektronenstrahl-Lithographiemustern auf eine Vielzahl von Substraten ermöglichen. Auf diese Weise können Hersteller Schaltungskomponenten auf Sub-Micron-Ebene mit beispielloser Genauigkeit und Wiederholbarkeit präzise herstellen. Die Hauptkomponente des SVG Micralign 640 ist seine hochauflösende bildgebende Ausrüstung. Dieses System kombiniert ein modernes optisches Mikroskop, das sowohl mit normalen als auch mit Transbeleuchtungsfähigkeiten ausgestattet ist, und eine computergesteuerte Lenkstufe. Das optische Mikroskop liefert ein helles Feldbild, das es dem Benutzer ermöglicht, das Lithographiemuster auf dem Substrat genau zu visualisieren. Die Lenkstufe wird exakt ausgerichtet und auf das Substrat eingestellt, wodurch die relative Positionierung der Maske und des Substrats mit hoher Präzision gesteuert wird. Das Gerät ist außerdem mit einer fortschrittlichen Lichtquelleneinheit ausgestattet, die sicherstellt, dass das Lithographiemuster jederzeit genau beleuchtet wird. Diese Maschine umfasst eine Hochleistungs-UV-Lichtquelle, ein Stromverteilungsnetz und einen Satz Linsen und Spiegel. Die Linsen und Spiegel sind strategisch platziert, um die Gleichmäßigkeit der Beleuchtung über das Substrat zu maximieren. ASML Micralign 640 ist auch mit einem Satz präzisionsgesteuerter Positionierelemente ausgestattet. Diese Elemente ermöglichen es dem Benutzer, die Position der Maske relativ zum Substrat genau einzustellen. PERKIN ELMER Micralign 640 ist auch mit einem erweiterten Steuerungstool ausgestattet, mit dem Benutzer mehrere Lithographiemasken-Layouts programmieren und speichern können. Dadurch ist es einfach, die Maske schnell relativ zum Substrat neu zu positionieren, was schnelle Änderungen ohne Verlust der Genauigkeit ermöglicht. Micralign 640 ist ein leistungsstarkes und präzises Werkzeug, das die effiziente Herstellung und Ausrichtung von Mikroschaltungskomponenten ermöglicht. Seine fortschrittlichen Bildgebungs-, Lichtquellen- und Positionierungselemente ermöglichen es Benutzern, Lithographiemuster präzise und wiederholt auf verschiedene Substrate auszurichten und so überlegene Ergebnisse und Qualitätskontrollen zu gewährleisten.