Gebraucht SVG / PERKIN ELMER / ASML Micralign 700 #293618523 zu verkaufen

SVG/PERKIN ELMER/ASML Micralign 700 ist ein hochgenauer, hochpräziser Maskenausrichter, der in der Photolithographie zur präzisen Herstellung von VLSI-Wafern verwendet wird. SVG Micralign 700 verfügt über modernste galvanometrische Steuerung und präzise, wiederholbare Registrierung für hervorragende Ausrichtungsgenauigkeit. Entworfen für maximale Produktivität und Flexibilität, bietet die Ausrüstung ein breites Spektrum an Funktionen und Fähigkeiten, um die hohen Anforderungen sowohl in der Produktion als auch in der Forschung zu erfüllen. Dieser Masken-Aligner ist ein präzises, zuverlässiges und schnelles Werkzeug zur Erzeugung komplizierter Muster auf einem Halbleiterwafer. Die zweiachsige galvanometrische Abtasteinheit des Systems ermöglicht eine schnelle und genaue Registrierung von bis zu 500 Ausrichtungsmarkierungen. Es bietet auch Platz für bis zu fünf Flex- und Flachmasken auf einmal. Mit seiner schnellen, präzisen und wiederholbaren Registrierung vereinfacht und beschleunigt ASML Micralign 700 die Maskierung. Micralign 700 ist auch mit einer automatisierten Linsenmaschine ausgestattet, die die Optik schnell und präzise für eine optimale Ausrichtung beim Wechsel von Maske zu Maske einstellt. Es verfügt außerdem über ein hochauflösendes Bildgebungswerkzeug zur Inspektion von Ausrichtungen und Identifizierung von Submikron-Fehlstellungen sowie ein hochpräzises Laserinterferometer zur Messung und Korrektur kleiner Abweichungen im Asset. Das Modell verfügt über mehrere Hauptmerkmale, die es zu einer ausgezeichneten Wahl für die Halbleiterphotolithographie machen, einschließlich eines Hochgeschwindigkeits-Crossline-Lasers zur präzisen Ausrichtung, einer intuitiven Benutzeroberfläche, die intuitive Benutzerfreundlichkeit bietet, und einer mechanischen Ausrüstung, die eine optimale Genauigkeit und Wiederholbarkeit bietet. Zusammenfassend ist PERKIN ELMER Micralign 700 ein leistungsstarker, hochpräziser und hochgenauer Maskenausrichter, der den hohen Anforderungen der Halbleiterscheibenherstellung gerecht wird. Es verfügt über einen zweiachsigen galvanometrischen Scanner zur schnellen Registrierung, ein hochauflösendes Bildgebungssystem zur Ausrichtungsinspektion und ein hochpräzises Laserinterferometer zur Messung und Korrektur kleiner Ausrichtungsvarianzen. Mit seinen fortschrittlichen Funktionen ist es eine ausgezeichnete Wahl, um eine feine Ausrichtung und Genauigkeit auf Schaltungspegel zu erreichen.