Gebraucht SVG / PERKIN ELMER / ASML PE661 / PE700 #9186519 zu verkaufen

SVG/PERKIN ELMER/ASML PE661/ PE700 Maske Aligner ist eine spezialisierte, hochmoderne Stepper/Aligner-Ausrüstung zur Herstellung von Photomasken und Halbleiterscheiben. Das Instrument weist zwei Optiksysteme auf, eine zum Ausrichten von Photomasken auf dem Wafer und die andere zum Erzeugen des Beugungsmusters, das von der Photomaske gesehen wird. Die Optik besteht aus einem telezentrischen Doublet-Objektiv, einem dichroitischen Strahlteiler und zwei abgewinkelten Spiegelanordnungen. SVG PE661/ PE700 verfügt über ein umfangreiches Sichtfeld (FOV) und eine hohe Genauigkeit bei Ausrichtoperationen. Der 800 × 800 μ m FOV bietet eine genaue Echtzeitauflösung von 5,4 μ m, der 1350 × 1400 μ m FOV eine Auflösung von 6,6 μ m. Das Gerät führt Musterüberlagerungsmessungen, Prozessentwicklung und Waferinspektionen mit beispielloser Präzision durch. ASML PE661/ PE700 Maske Aligner ist für die Hochleistungsproduktion von Halbleiterscheiben ausgelegt. Es verfügt über eine erweiterte Optik, eine Stempel-zu-Stempel-Registrierungseinheit, eine Ausrichtungsstufe und eine zum Patent angemeldete Multi-Achsen-Bewegungssteuerungshardware. Die Maschine kann das Nähen für großflächige Muster optimieren und bietet überlegene Leistung bei kritischen Ausrichtungsanwendungen. Es bietet auch Nähmöglichkeiten für Fliesen, die noch mehr Präzision bieten. PERKIN ELMER PE661/ PE700 bietet eine Reihe automatisierter Wafer-Handhabungsmöglichkeiten, darunter eine Substratklemmmaschine, eine Wafer-Handhabungseinheit, eine Wafer-Vorausrichtvorrichtung und ein Photoresist-Inspektionswerkzeug. Es ist auch mit spezialisierten Wafer-Ausrichtungs- und Platzierungsoptimierungssystemen ausgestattet, die eine effektivere automatisierte Datenerfassung und -analyse ermöglichen. Darüber hinaus umfasst PE661/ PE700 erweiterte Kalibrier- und Tuningfunktionen, um höchste Genauigkeit über eine Vielzahl von Prozessbedingungen zu gewährleisten. SVG/PERKIN ELMER/ASML PE661/ PE700 verfügt auch über mehrere einzigartige und fortschrittliche Sicherheitsfunktionen. Das Instrument ist mit schwingungsdämpfenden Mechanismen und Kühlsystemen ausgestattet, die eine Überhitzung und Verschmutzung der Kammer und der Optik verhindern. Die Maschine nutzt auch rechnergesteuerte Getriebedynamiken, die unerwünschte Übergangsbewegungen verhindern. Insgesamt ist SVG PE661/ PE700 Mask Aligner ein Präzisionsinstrument, das eine hochgenaue Ausrichtung von Photomasken auf Wafern in Produktionseinstellungen mit hoher Ausbeute bietet. Seine Reihe automatisierter Wafer-Handling-Komponenten, fortschrittliche Optik und geschichtete Sicherheitsfunktionen verbessern seine Genauigkeit und Zuverlässigkeit, um konsistente, qualitativ hochwertige Ergebnisse zu gewährleisten.