Gebraucht SVG / PERKIN ELMER / ASML PE761 #9113601 zu verkaufen

SVG/PERKIN ELMER/ASML PE761 ist ein hochpräzises Maskaligner-Werkzeug, mit dem Halbleiterscheiben und Geräteschichten im Nanometermaßstab gemustert werden. Der Maskenausrichter zielt auf photolithographische Prozesse bei der Erstellung von Halbleiterbauelementen ab. Für jeden Lithographievorgang wird eine „Maske“, auch Photomaske genannt, benötigt. Es enthält Muster, die auf die Wafer aufgedruckt sind. Die Geräteschichten müssen dort platziert werden, wo sie belichtet und gemustert werden. Ein wesentliches Merkmal von SVG PE761 ist seine hohe Positions- und optische Genauigkeit, die für eine präzise Schaltungstechnik notwendig ist. Das 6-Achsen-hochintegrierte automatische Ausrichtsystem bietet ein hohes Maß an Flexibilität und Genauigkeit. Es bietet eine motorisierte Stufe, die 4 „- oder 6“ -Wafergrößen sowie eine doppelte Waferausrichtung und eine breite Palette von Retikelgrößen handhaben kann. ASML PE761 verfügt über ein optisches Bildsystem mit hellen Feldern und dunklen Feldern, wodurch es in der Lage ist, verschiedene Arten von Inspektionen einschließlich Inspektionen von sehr kleinen Strukturen zu ermöglichen. PERKIN ELMER PE761 verfügt auch über eine breite Palette von Automatisierungs- und Prozesssteuerungsfunktionen. Es ist in der Lage, Ausrichtungs-, Lithographie- und Belichtungsprozesse zu automatisieren und umfasst auch automatisierte SPC (Statistical Process Control) -Funktionen, die Echtzeit-Prozessüberwachungsfunktionen bieten. Darüber hinaus bietet PE761 eine Reihe von Produktivitätsmerkmalen wie hohe Positionierauflösung, schnelle Waferübertragung und hohe Wiederholbarkeit und Zuverlässigkeit. Darüber hinaus ist die Maschine in der Lage, eine Reihe von verschiedenen Prozessen sowie mehrere Absichten zu handhaben. Dazu gehören zweifelsfrei funktionierender Formdruck und CMP-Prozesssteuerung (Chemical Mechanical Polishing). Das SVFSVG/PERKIN ELMER/ASML PE761 ist ein automatisiertes, präzises und hochintegriertes Maskenausrichtwerkzeug. Sein modernes Design und seine Leistungsfähigkeit machen es zu einer idealen Wahl für die Strukturierung von Halbleiterscheiben oder Bauelementschichten im Nanometermaßstab. Die Kombination aus 6-Achsen-Ausrichtungssystem, Waferausrichtung und automatisierten Prozesssteuerungs- und Überwachungsfunktionen machen SVG PE761 zu einem äußerst nützlichen Werkzeug sowohl für Photolithographie- als auch für Prozesssteuerungsanwendungen.