Gebraucht TAMARACK 162 #9397213 zu verkaufen

TAMARACK 162 ist ein fortschrittlicher Maskenausrichter zur Herstellung von hochauflösenden Photolithographie-Mustern zur Herstellung von integrierten Schaltungen mit sehr hoher Präzision. 162 ist ein Maskenausrichter, der einen kontinuierlichen Kontaktbelichtungsprozess unter Verwendung eines sich bewegenden Laserflecks verwendet. Diese Art von Masken-Aligner ist deutlich genauer als herkömmliche Kontaktbelichtungssysteme, so dass Belichtungsauflösungen von 2 Mikron oder weniger. TAMARACK 162 wurde entwickelt, um hochauflösende Muster mit einer Belichtungsauflösung von 0,5 μ m oder weniger zu liefern. Diese Genauigkeit wird durch ein betätigtes x-y-Positioniersystem erreicht, das eine präzise Ausrichtung von Bauteilen bis zu einer Auflösung von 0,1 μ m ermöglicht und dabei einen Abtastlaserfokus zur Aufrechterhaltung einer hochauflösenden Bildgebung verwendet. 162 verwendet auch eine flexible Musterstufe, die unterschiedliche Mustergrößen und -tiefen auf einem einzigen Substrat ermöglicht. TAMARACK 162 ist ein benutzerfreundlicher Maskenausrichter, der eine schnelle und genaue Herstellung komplexer Photolithographiemuster ermöglicht. Es verfügt über eine intuitive grafische Benutzeroberfläche mit Touchscreen-Bedienelementen und ein eingebettetes Bewegungssteuerungssystem zur präzisen Positionierung. 162 verfügt außerdem über eine interne automatische Belichtungsüberwachung und -optimierung, ein automatisches Ladesystem für die Handhabung von Wafern/Substraten und einen selbstverwalteten Roboterarm zum Be- und Entladen von Masken. Zusätzlich zu seinen hochauflösenden Bildgebungsfunktionen und seiner benutzerfreundlichen Oberfläche wurde TAMARACK 162 unter Berücksichtigung der Kosteneffizienz konzipiert. Es verfügt über Prozessautomatisierung und integrierte Produktivitätsüberwachungsfunktionen, um den Durchsatz zu maximieren, und seine flexible Software kann für eine Reihe von gemeinsamen Anforderungen an die Geräteherstellung verwendet werden, einschließlich Spintronik, MEMS, Mikrofluidik und Photonik, unter anderen komplexen Technologieanwendungen. Insgesamt ist 162 eine ideale Wahl für technologisch anspruchsvolle Prozesse und Anwendungen, die eine hochpräzise Photolithographie-Musterung erfordern. Die hochauflösende Stufe, die Robotik und die automatisierten Funktionen ermöglichen eine schnelle und präzise Montage und Ausrichtung von Fotomasken und sind somit eine ideale Lösung für die Herstellung von hochpräzisen Wafern.