Gebraucht USHIO UX-4240 #9364546 zu verkaufen

USHIO UX-4240 ist ein hochmoderner Maskenausrichter zur Herstellung von Halbleiterbauelementen. Das Gerät ist darauf ausgelegt, optische Masken und Wafer bei hohen Geschwindigkeiten exakt auszurichten. Es ist mit einer 4-Achsen-Bewegungsstufe ausgestattet, die eine schnelle, genaue Musterausrichtung ermöglicht. Das System umfasst auch Autofokus- und Ausrichtungskamerasysteme zur präzisen Steuerung. USHIO UX 4240 verwendet eine Vielzahl von Lichtquellen für verschiedene Mustertechnologien, einschließlich Deep-UV, laserdoped, Elektronenstrahl und Nanoimprint-Lithographie. Es verfügt über eine hochdynamische Strahlabtasteinheit, die Geschwindigkeit, Beschleunigung und Richtung kontrollieren kann und eine extrem präzise Strukturierung ermöglicht. Die Maschine wurde entwickelt, um konsistente Ergebnisse für kleine und große Musterbereiche zu liefern, auch mit komplexen Konstruktionsregeln. Die Maschine ist auch mit induktiv gekoppelter Plasma (ICP) Sputtertechnologie ausgestattet, um dünne Resistfilmschichten auf dem Wafer zu erzeugen. Für zusätzliche Produktivität verfügt UX-4240 über ein Vier-Kammer-Design, das eine gleichzeitige Maskenausrichtung, Messtechnik und Chemie ermöglicht. Dies ermöglicht einen schnelleren Durchsatz und geringere Kosten pro Wafer. Es enthält auch eine Waferspannstufe für zusätzliche Musterausrichtungsgenauigkeit. Das Werkzeug enthält auch eine Laser-Resistentfernung zum Entfernen vorhandener Rückstandsschichten. UX 4240 ist für hohe Verfügbarkeit ausgelegt und bietet volle Fernzugriffs- und Wartungsfunktionen für verbesserte Wartungsfreundlichkeit. Das Modell beinhaltet ein digitales Mikroskop zur einfachen Ausrichtung und Inspektion von Wafern. Dies ermöglicht eine gleichbleibende Gerätequalität bei verbesserten Ausbeuten. Das Gerät verfügt auch über erweiterte Sicherheitsfunktionen und eine benutzerfreundliche grafische Oberfläche für mehr Produktivität. USHIO UX-4240 ist ein fortschrittliches System, das speziell entwickelt wurde, um eine schnelle und genaue Ausrichtung von optischen Masken und Wafern zu gewährleisten. Seine hohe Geschwindigkeit, dynamische Strahlabtastfunktionen, gleichzeitige Maskenausrichtung und Messtechnik und einfache Wartbarkeit machen es zu einer idealen Lösung für die Herstellung von Halbleiterbauelementen.