Gebraucht USHIO UX-4440 #293591994 zu verkaufen

USHIO UX-4440
Hersteller
USHIO
Modell
UX-4440
ID: 293591994
Wafergröße: 6"
Aligners, 6".
USHIO UX-4440 Mask Aligner ist eine dedizierte, hochpräzise Maschine für die Fotolithographie-Musterung, die eine Masken- und Waferausrichtung in Sub-Mikron-Genauigkeit ermöglicht. Es ist für die Strukturierung und Verarbeitung von Substraten bis 4 „x4“ ausgelegt, mit einer Wiederholbarkeit von ± 1 µm. Der Aligner unterstützt optische Photoresist-Linsensysteme, automatisierte Filmabscheidung und importierte Designdaten, so dass es effektiv ist, die Präzisionsausrichtung zu schaffen, die für die Entwicklung hochraffinierter Wafer mit komplizierten Designs entscheidend ist. Die integrierte fortschrittliche Computersteuerungsausrüstung ist in der Lage, komplexe Trace-Mode-Programme und Auto-Edge-Finder-Technologie zu handhaben. USHIO UX 4440 hat eine 25mm bis 200mm FOV, mit einer maximalen optischen Vergrößerung von 20x, ermöglicht eine umfassende Ansicht des projizierten Maskenmusters, die Genauigkeit der Ausrichtung zu überprüfen. Intuitiver Touchscreen und eine Vielzahl von Funktionen ermöglichen eine einfache Bedienung (z.B. Step-and-Repeat, automatische Maskenregistrierung). Die Benutzeroberfläche ist für bis zu 10 benutzerdefinierte Rezepteinstellungen und Mikroskopbilder programmierbar und ermöglicht die Speicherung und Wiedergabe des Prozessflusses, der für einen Auftrag verwendet wird, wann immer gewünscht. UX-4440 verfügt über einen zweikammrigen, ungiftigen Trockenätzresistentferner, der eine Vielzahl von Resistmaterialien unterstützt und eine hervorragende Waferqualität ermöglicht. Das System hat ein Bestrahlungsfeld von 430mm Länge, was eine gleichmäßige gleichmäßige Belichtung bei der maximalen Geschwindigkeit von 200W/cm2 ermöglicht. Die Lichtquelle von UX 4440 ist anpassbar und kann sowohl mit polarisiertem Licht als auch mit UV-Licht verwendet werden, um das Maskenmuster genau auszurichten. Die eingebaute Lichtquelle und Gantry ermöglichen eine breite Palette von Belichtungswinkeln, wodurch eine schmale und weitwinklige Belichtung auf demselben Substrat möglich ist. Der mikroprozessorbasierte Controller in USHIO UX-4440 ermöglicht eine Reihe von Operationen wie die automatische Prozesssteuerung, die bewegliche Chargenverarbeitung und die Niedrigtemperaturverarbeitung, die es zu einer idealen Wahl für die fortschrittliche Waferbearbeitung machen. Darüber hinaus kann die Einheit für die mehrschichtige Waferbearbeitung mit der optionalen doppelseitigen Abbildungsmaschine verwendet werden, wodurch noch kompliziertere Prozesse durchgeführt werden können. USHIO UX 4440 Maske Aligner ist ein wesentliches Werkzeug für Halbleiter- und Displayhersteller, die eine schnelle, präzise und zuverlässige Lithographiemusterung benötigen. Seine fortschrittlichen Eigenschaften sowie seine hochgenauen optischen Linsensysteme machen es zur perfekten Wahl für Maskenausrichtung und Waferbearbeitung von höchster Qualität.
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