Gebraucht CARL ZEISS CDC 200 #9185363 zu verkaufen

CARL ZEISS CDC 200 ist eine hochmoderne Maskenerzeugungs- und Produktionsanlage, die speziell für anspruchsvolle, großflächige Photolithographieverfahren entwickelt wurde. Es wurde entwickelt, um eine effiziente, kostengünstige Lösung für die Herstellung von Mikro-, Halbleiter- und Elektronikkomponenten bereitzustellen. Das System bietet eine Vielzahl von Funktionen, einschließlich hochauflösender Strahlfokussierungsfähigkeit für die Herstellung von Lochmasken und variabler Mustergröße und Maskenöffnungen für die hochauflösende Bildgebung. Die komplette integrierte Lösung umfasst auch erweiterte Maskenlayoutoptionen, automatisierte Test- und Charakterisierungssoftware, erweiterte Designdatenbank für Muster- und Ätzprozess und eine automatisierte Back-End-Schnittstelle. Zusätzlich zu diesen Vorteilen bietet das Gerät eine hohe Durchsatzleistung, sodass Benutzer schnell mehrere Masken gleichzeitig herstellen können. Es kann bis zu 9-Zoll-Masken pro Prozesszyklus produzieren, und seine fortschrittlichen Pre-Production-Workflow-Systeme bieten mehrschichtige, hochauflösende Bildgebungsfunktionen. CDC 200 ist auch mit einer leistungsstarken und flexiblen Steuerungsmaschine ausgestattet, die an spezifische Anforderungen angepasst und konfiguriert werden kann. Dieses Steuerungstool verwendet intelligente Software-Tools, um jeden Aspekt des Maskenproduktionsprozesses zu überwachen und zu steuern, von der Mustererzeugung bis hin zu Ausrichtungs- und Strahlbelichtungsprozessen. CARL ZEISS CDC 200 bietet spezifische Funktionen, um eine präzise Ausrichtung, Positionierung und Genauigkeit zu gewährleisten. Dazu gehören Fehlerüberprüfungsalgorithmen, ein automatisierter softwaregestützter Ausrichtungsprozess und 3D-Messfunktionen. All diese Funktionen tragen dazu bei, zuverlässige und präzise Produktionsergebnisse zu gewährleisten. Insgesamt ist CDC 200 eine ideale Bereicherung für massenhafte Maskenproduktionen. Es bietet eine effiziente und kostengünstige Lösung für die Herstellung von Mikro-, Halbleiter- und Elektronikbauelementen. Durch seine verschiedenen erweiterten Funktionen bietet das Modell überlegene Maskenlayout, Ausrichtung und Mustergenauigkeit. Es bietet auch hohe Durchsatzfunktionen, so dass Benutzer schnell mehrere Masken gleichzeitig herstellen können.