Gebraucht ELECTROMASK / TRE 251CC #9288863 zu verkaufen
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ID: 9288863
Pattern generator
Stand alone
With (3) microns
Plate sizes: 3x3" to 8x10" Glass
Step sizes: 0.395 x 0.395"
Wave lengths: 365 nm and 405 nm used for Mercury arc lamps.
ELECTROMASK/TRE 251CC ist eine hochmoderne Maskenerzeugungs- und Produktionsanlage, die Herstellern und Herstellern bei der effizienten Erstellung von Photomasken für den Einsatz in verschiedenen Anwendungen hilft. Das System verfügt über einen produktionsbereiten Workflow mit erweiterter Datenvorbereitung, um detaillierte, genaue Fotomasken in einer Vielzahl von Größen, Materialien und Formen zu erstellen. Es ist mit einer TRE 251CC Sputtereinheit ausgestattet, die Abscheidegeschwindigkeiten bis 100 nm/sec und mit einer schmalsten Linienbreite von 20 nm aufweist. Dies ermöglicht das präzise Ätzen von Photomasken-Mustern, wodurch komplizierte Details für fortgeschrittene Anwendungen erzeugt werden. ELECTROMASK 251CC verwendet fortschrittliche Musteraufbereitungs- und Manipulationssoftware, um eine Vielzahl von Masken zu erstellen, von benutzerdefinierten bis zu detaillierten Formen, die eine schnelle Maskenerstellung in einem einzigen Lauf ermöglichen. Es verwendet auch eine Maskenverwaltungssoftware, die bei der Verwaltung von Produktion und Workflow hilft und gleichzeitig Fehler reduziert. Darüber hinaus integriert die Maschine eine webbasierte Benutzeroberfläche für Fernzugriff und Nutzung, die eine Fernsteuerung der Produktion ermöglicht. 251CC verfügt auch über eine leistungsstarke Mikrowellenenergiequelle, die bis zu 1000 Watt Leistung erzeugen kann, und ein digitales Display, um Ätz- und Abscheideraten zu beschleunigen. Es verfügt über ein optionales Inline-Messtechnik-Tool, das verwendet werden kann, um genaue Muster zu gewährleisten, sowie eine Multi-Vakuum-Quelle für Ätzsteuerung und Gleichmäßigkeit. Darüber hinaus ermöglicht der modulare Aufbau der Anlage eine einfache Installation und Wartung. Insgesamt ist ELECTROMASK/TRE 251CC eine innovative und robuste Lösung zur Maskenerzeugung und -produktion. Seine fortschrittlichen Funktionen, einschließlich der hohen Genauigkeitsabscheidungsrate, der präzisen Ätz- und Musteraufbereitungsfunktionen und seiner modernsten Software- und Benutzeroberflächendesigns, machen es zu einer idealen Wahl für die Herstellung hochwertiger Masken. Hersteller und Hersteller können von ihrer Benutzerfreundlichkeit und ihrem Zugang zu fortschrittlichen, branchenführenden Technologien profitieren und ihnen dabei helfen, ihre Produktionsprozesse zu optimieren und eine effizientere, kostengünstigere Photomaskenproduktion zu ermöglichen.
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