Gebraucht ETEC 4500F #152934 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

ETEC 4500F
Verkauft
ID: 152934
Mask generation system.
ETEC 4500F Mask Generation & Production Equipment ist ein strategisches Launchsystem, das es Halbleiterherstellern ermöglicht, Photomasken mit überlegener Qualität und niedrigen Kosten zu produzieren. Basierend auf einer fortschrittlichen optischen Lithographie-Plattform bietet es eine überlegene Druckauflösung, hohe Genauigkeit und überlegene Fehlererkennung. Das Gerät verfügt über eine hochmoderne 4-Backen-Schrittbewegungsmaschine für präzise, offene Blickfeldbewegungen, die eine präzise Positionierung der Stufen Reticle und Blanking ermöglicht. Die Be- und Entlade-Staging-Funktion ist vollautomatisch und ermöglicht ein einfaches und fehlerfreies Be- und Entladen des Retikels. Das Tool enthält eine fortschrittliche Messanlage, die die Genauigkeit der Photomasken verbessert. Sein Sensor mit mehreren Induktionsquellen hilft bei der Erkennung von Nieder- und Mittelfrequenzfehlern und hilft bei der Optimierung der Fehlererkennungsgenauigkeit. Zusätzlich bietet das Modell eine optionale hochgenaue Ausrichtstation für die Ausrichtung und Überwachung des Fotomaskendrucks. 4500F Mask Generation & Production Equipment bietet auch ein umfangreiches Angebot an Datenein-/-ausgabeoptionen. Seine High-Speed-Ethernet-Schnittstelle ermöglicht es Benutzern, hochauflösende Daten schnell zu übertragen. Darüber hinaus umfasst das System eine fortschrittliche, sichere DIT-Einheit (Digital Image Transfer), mit der Benutzer digitale Daten aus der lokalen Produktionsumgebung in das Arbeitszentrum verschieben können, wodurch die manuelle Datenlieferung eliminiert wird. Darüber hinaus unterstützt die Maschine eine Vielzahl von Verfahren zur Maskenerstellung und Dateneingabe. Die integrierten QS-Fähigkeiten stellen sicher, dass alle eingehenden und ausgehenden Masken auf Genauigkeit und Qualität überprüft werden, wodurch sichergestellt wird, dass nur die hochwertigsten Endprodukte geliefert werden. Es hat auch eine Selbsttestfunktion, die eine einfache und fehlerfreie Installation ermöglicht. ETEC 4500F Mask Generation & Production Tool ist für verbesserte Produktivität und Kosteneinsparungen konzipiert. Von der Integration automatischer Maßnahmen und der Echtzeit-Datenüberwachung bis hin zum One-Stop-Produktions-/Verifikations-Workflow bietet es ein vollständiges Spektrum kostengünstiger Lösungen, die die Produktivität steigern. Schließlich kann die Anlage zur einfachen und schnellen Herstellung von Drucken oder zur Herstellung von Großserienläufen verwendet werden.
Es liegen noch keine Bewertungen vor