Gebraucht ETEC Mebes 4 #9252186 zu verkaufen

ETEC Mebes 4 ist eine fortschrittliche Maskengenerations- und Produktionsausrüstung, die für die Herstellung von integrierten Schaltungsmasken für kommerzielle und militärische Anwendungen entwickelt wurde. Das System basiert auf einer offenen Architekturplattform, die die Integration verschiedener Software- und Hardwarekomponenten ermöglicht. Es ist in der Lage, verschiedene lithographische Prozesse wie Stepper, Rasterelektronenstrahl sowie Raster- und Vektorplotter zu unterstützen. Die ersten Modelle der Einheit wurden mit dem Ziel gebaut, ein effektives Verfahren zur Erzeugung von integrierten Schaltungsmasken durch den Einsatz verschiedener ausgeklügelter Algorithmen bereitzustellen. Es verwendet eine Reihe von Funktionen, um ein optimales Ergebnis zu liefern. Diese Merkmale umfassen die Fähigkeit, Überbelichtung, Seitenwandglättung, Fehlausrichtung und Öffnungsgrößen zu kompensieren. Die Maschine hat auch die Fähigkeit, Maskenmuster mit hoher Auflösung zu definieren und Belichtungssteuerung durchzuführen. Darüber hinaus hat Mebes 4 die Fähigkeit, die Erzeugung von integrierten Schaltungsmasken für eine Vielzahl von Wafergrößen zu unterstützen. Diese Fähigkeit ermöglicht die Herstellung von Masken, die für unterschiedliche Anwendungen geeignet sind. Das Werkzeug verwendet auch hochpräzise Schleif- und Ätztechniken, um hochwertige Masken herzustellen. In Sachen Software betreibt ETEC Mebes 4 Asset die bekannte Photon Exposure Tool (PET) Software. Diese Software wurde entwickelt, um den Benutzern die notwendigen Werkzeuge zur Verfügung zu stellen, um hochwertige integrierte Schaltungsmasken zu erstellen. Es enthält auch eine große Bibliothek mit vordefinierten Layoutvorlagen, die für die Erstellung verschiedener Layoutdefinitionen verwendet werden können. Das Modell ist hochautomatisiert und ermöglicht automatisierte Prozesse wie automatische Ausrichtung, Platzierung, Belichtung und Fertigung. Es verfügt über eine Reihe von Funktionen, die es zu einem leistungsfähigen Werkzeug bei der Herstellung von integrierten Schaltungsmasken machen, einschließlich der Fähigkeit, hochauflösende Strukturen sowie großflächige Strukturen in einem einzigen Arbeitsgang zu definieren. Mebes 4 bietet dem Anwender auch die notwendigen Gestaltungsregeln, um Masken zu erstellen, die den aktuellen Industriestandards entsprechen. Dies geschieht durch die Implementierung eines Design Rule Checker (DRC) sowie einer Bibliothek mit konfigurierbaren Designregeln. Zusammen mit seinen ausgeklügelten Algorithmen ist das Gerät ein unschätzbares Werkzeug für die Herstellung von integrierten Schaltungsmasken.