Gebraucht ETEC Mebes 4000 #9412599 zu verkaufen

ETEC Mebes 4000 ist eine fortschrittliche Maskenerzeugungs- und Produktionsanlage zur Herstellung von Submikronelektronik und MEMS-basierten Komponenten. Es verfügt über ein hochpräzises Waferbelichtungssystem, ein automatisiertes Waferdruckwerk und eine hochauflösende Photomasken-Inspektionsmaschine. Das fortschrittliche Wafer-Belichtungswerkzeug ermöglicht eine präzise und wiederholbare lithographische Strukturierung und Abbildung des belichteten Bereichs. Das Asset enthält ein hochauflösendes Beugungsmuster und Prober, das in der Lage ist, die Belichtung der Randgrenzen und die Musterorientierung genau zu steuern. Die sehr feine Genauigkeit und Wiederholbarkeit im Belichtungsprozess trägt dazu bei, die Fehlermöglichkeit im bildgebenden Prozess zu reduzieren. Das automatisierte Waferdruckmodell ist eine vollständig integrierte und automatisierte Waferdruckanlage, die ein schnelles, hochauflösendes Drucken und eine genaue Platzierung des fertigen Musters auf dem Substrat ermöglicht. Das System verfügt über eine hochmoderne selbstausrichtende Maskenausrichteinheit, die ein genaues Drucken und Platzieren des gedruckten Musters gewährleistet. Schließlich erlaubt die in Mebes 4000 enthaltene hochauflösende Fotomasken-Inspektionsmaschine die Inspektion der fertigen Fotomaske auf Fehler oder Fehler. Die Fotomaske kann bei unterschiedlichen Vergrößerungen und Lichtintensitäten inspiziert werden, wodurch Fehler präzise erkannt werden können. Zusammenfassend bietet ETEC Mebes 4000 erweiterte Möglichkeiten zur Maskenerzeugung und -produktion für Submikronelektronik und MEMS-basierte Komponenten. Es beinhaltet hochauflösendes Beugungsmuster und Prober, ein automatisiertes Waferdruckwerkzeug und hochauflösende Photomasken-Inspektionsfunktionen in einem sehr wiederholbaren, präzisen und integrierten Asset.