Gebraucht ETEC Mebes 4500-5500 #9081928 zu verkaufen

ETEC Mebes 4500-5500 ist eine Maskenerzeugungs- und -produktionsanlage, die für hochvolumige, qualitativ hochwertige Photomasken-Herstellungsprozesse entwickelt wurde. Das System nutzt sowohl Elektronenstrahl als auch optische Abbildungstechnologie, um hochauflösende Photomasken zu erzeugen. Herzstück der Einheit ist ihre hochauflösende Elektronenstrahl-Schreibmaschine (EBW), die eine automatisierte E-Strahl-Säule verwendet, um die in der Geräteherstellung verwendeten Photomasken zu erzeugen. Das E-Beam-Tool verfügt über eine maximale Scangeschwindigkeit von bis zu 10 Millionen Punkten/Sekunde mit einer Strahlgröße von 6 bis 30 nm. Dies ermöglicht die Erzeugung extrem präziser Photomasken mit der Fähigkeit, die Auflösung zu erhöhen und die Partikelverschmutzung zu reduzieren. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine automatisierte optische Belichtungseinheit Vamis DLP (Digital Light Processing) und unterstützt sowohl Standard-Lithographie-Auflösungsstufen (5 µm min) als auch mehrere verbesserte Auflösungen. Neben seinen hochauflösenden Funktionen verfügt der Mebes 4500-5500 auch über eine Reihe von Funktionen, die auf eine verbesserte Geschwindigkeit und Produktivität ausgelegt sind. Dazu gehören ein fortschrittliches Robotersubstrat-Handhabungsmodell, eine einstellbare lasergeführte Positionierausrüstung und ein schnelles Photomasken-Inspektionssystem mit automatisierter Inspektion und manueller Scanfähigkeit. Insgesamt ist ETEC Mebes 4500-5500 eine extrem fortschrittliche und zuverlässige Maskenerzeugungs- und -produktionseinheit, die Präzision, Geschwindigkeit und Genauigkeit bietet. Seine Eigenschaften ermöglichen es ihm, qualitativ hochwertige Photomasken zu erstellen, die enge Spezifikationen mit minimaler Partikelverunreinigung erfüllen. Dies macht es zu einer idealen Wahl für großvolumige Anwendungen und ist eine kostengünstige Lösung für die Verbesserung der Lithographie-Fähigkeiten in Fertigungsprozessen.