Gebraucht ETEC Mebes 4500 #9087972 zu verkaufen

ETEC Mebes 4500 ist eine Maskenerzeugungs- und -produktionsanlage für hochwertige Lithographieanwendungen im Submikronbereich (von 0,35 µm bis 10 µm). Dieses Maskengenerierungssystem bietet eine hervorragende Leistung für eine Vielzahl von Anwendungen wie DRAM, SRAM, Flash, ASICs und analoge/digitale ICs. Die Einheit besteht aus zwei unabhängigen Modulen, die zusammenarbeiten, um Masken zu verarbeiten und zu erzeugen. Das erste Modul, Mebes 4500 Maskengenerator, bietet einen hochpräzisen Maskenmustergenerator, um die Anforderungen der fortschrittlichen Produktion auf unterschiedlichen Substraten und komplexen Designs zu unterstützen. Ausgestattet mit mehreren Schichten von elektronischen Komponenten ermöglicht der Generator die Erzeugung von Pixel-perfekten Masken für verschiedene Fertigungsprozesse. Der Generator bietet Funktionen wie einstellbare Prozessparameter, Profilkompensation und einen einzigartigen 'Mark-and-Measure' -Algorithmus. Das zweite Modul, ETEC Mebes 4500 Mask Production Machine, ist die automatisierte Produktionsseite des Werkzeugs. Es wurde entwickelt, um die Herstellung der Masken mithilfe integrierter Messtechnik und Bildverarbeitungssysteme zu automatisieren. Mit diesem Asset können Bediener Fehler an den Masken erkennen und Korrekturen vornehmen, bevor sie gedruckt werden. Darüber hinaus verfügt es über eine Reihe von automatisierten Inspektions- und Qualitätskontrollmechanismen, die sicherstellen, dass die Masken nach hohen Standards hergestellt werden können. Mebes 4500 Modell bietet eine Reihe von Vorteilen für die Lithographie-Produktion. Zum Beispiel ist die Verarbeitung und Produktion der Geräte schnell und präzise und bietet einen präzisen und wiederholbaren Lithographie-Prozess. Darüber hinaus ist es mit einer Reihe von softwarebasierten Tools ausgestattet, um benutzerdefinierte Masken zu erstellen und Produktionsprozesse zu optimieren. Die automatisierten Inspektions- und Qualitätskontrollfunktionen helfen auch, Produktionszeiten zu reduzieren und die Genauigkeit zu erhöhen. Insgesamt ist das ETEC Mebes 4500 System eine ideale Einheit für die Produktion von Submikronlithographie. Mit ihren genauen Erzeugungs- und Produktionsmöglichkeiten bietet die Maschine hochwertige Masken und optimierte Produktionsprozesse für verschiedene IC-Designs.