Gebraucht ETEC Mebes 4500 #9087976 zu verkaufen

ETEC Mebes 4500 ist eine Maskengenerations- und Produktionsanlage, die den Prozess der Herstellung von lithographischen Masken optimieren soll. Dieses System ist in der Lage, vorhandene Konstruktionsdaten zu generieren oder zu bereinigen, was zu optimierten Grafiken für die lithographische Produktion führt. Mebes 4500 wurde entwickelt, um überlegene Erträge und Produktivität zu liefern. Diese Hardware ist mit High-End-Photonenstrahl-Lithographie ausgestattet, die komplizierte Maskenmuster mit geräuscharmer Leistung ermöglicht. Die eingebaute Fehlerkorrekturfunktion reduziert die verschwenderische Nacharbeit und Reparaturzeit erheblich. Das Gerät ist für die manuelle Beladung entwickelt, so dass die volle Kontrolle über die lithographische Muster Platzierung auf der Maske. Diese Maschine kann auch automatisierte Musterbewegungen für Volumenläufe durchführen. Mit seinen fortschrittlichen bildgebenden Methoden ist das Tool in der Lage, feine Details originalgetreu zu reproduzieren. Es unterstützt eine Vielzahl von Photomasken-Substraten, die es ermöglichen, Masken für konventionelle und exotische Halbleiterbauelemente zu erzeugen. Der 4500 bietet eine breite Palette von Funktionen, die die Produktionszeit erhöhen und Fehler minimieren. Sein ergonomisches Design ist benutzerfreundlich und reduziert die Ermüdung des Bedieners bei langen Laufzeiten. Die modulare, erweiterbare Architektur ermöglicht die Konfiguration, die am besten zu Ihren Workflow- und Benutzereinstellungen passt. Die variable Auftragsaufteilung, die Korrekturen des einfallenden Lichts und das computergestützte Design sind nur einige der Funktionen, die es zu einem idealen Werkzeug für die Maskenproduktion machen. Das Modell der Maskenerzeugung ETEC Mebes 4500 ist ein effizientes und benutzerfreundliches Werkzeug für die Herstellung von lithographischen Masken. Seine hochmodernen Funktionen und Funktionen ermöglichen maximale Erträge bei gleichzeitiger Verringerung von Durchlaufzeiten und Produktionsfehlern. Diese Eigenschaften, kombiniert mit seinem hochkonfigurierbaren Design, machen es zu einem wesentlichen Werkzeug für die Erzeugung von Masken auf Produktionsebene.