Gebraucht ETEC Mebes 4500 #9087987 zu verkaufen

ETEC Mebes 4500 ist eine Maskenerzeugungs- und -produktionsanlage zur Herstellung von Photomasken, die sehr wichtige Komponenten bei der Herstellung integrierter Schaltungen sind. Dieses System besteht aus mehreren Komponenten, darunter einem Laserscanner, einem Netzteil, einer CAD-Software (Computer Aided Design) und einem vakuumunterstützten Halter. Der Laserscanner verwendet E-Beam-Technologie, die einen Elektronenstrahl verwendet, um die Form der Photomaske zu definieren. Dieser Vorgang ist aufgrund der sehr präzisen Fokussierung und Lenkbarkeit des Elektronenstrahls sehr genau. Darüber hinaus kann der Laserscanner Masken mit sehr kleinen Merkmalsgrößen und komplexen Geometrien herstellen. Die Stromversorgung ist für die Stromversorgung der Photomaske verantwortlich. Diese Leistung wird in zwei Formen geliefert: Gleichstrom (DC) und Hochfrequenz (RF). Die Gleichspannungsleistung wird verwendet, um eine Ladung auf der Photoleiteroberfläche zu erzeugen, die dann verwendet wird, um das Design auf die Fotomaske zu ziehen. Die HF-Leistung wird verwendet, um den „Plasmaätzprozess“ zu erzeugen, der verwendet wird, um die Maskenmuster dauerhafter zu machen. Die CAD-Software (Computer Aided Design), die in Mebes 4500 eingesetzt wird, ist hochentwickelt und vielseitig einsetzbar. Es kann verwendet werden, um eine Vielzahl von Photomasken-Designs zu erzeugen und bestehende Designs zu ändern. Die CAD-Software ermöglicht auch die Manipulation von Parametern wie Leistung und Wellenlänge, mit denen Photomasken mit spezifischen elektrischen Spezifikationen erstellt werden können. Schließlich ermöglicht der vakuumunterstützte Halter das Halten der Fotomaske während des Ätzvorgangs, was erforderlich ist, um sicherzustellen, dass die Maske während des Herstellungsprozesses korrekt platziert wird. Insgesamt ist ETEC Mebes 4500 eine hochentwickelte und zuverlässige Maskenerzeugungs- und Produktionsmaschine. Seine hohe Genauigkeit und seine geringen Eigenschaften machen es perfekt für die Herstellung von Photomasken, die ein wesentlicher Bestandteil der Herstellung integrierter Schaltungen sind. Die vielseitige CAD-Software (Computer Aided Design) ermöglicht Änderungen an den Photomasken-Designs und die vakuumunterstützte Halterung sorgt dafür, dass die Masken während der Produktion korrekt platziert werden.