Gebraucht ETEC Mebes 4500 #9087990 zu verkaufen

ETEC Mebes 4500 ist eine leistungsstarke Maskenerzeugungs- und Produktionsanlage mit einem umfassenden Werkzeugsatz zur Erzeugung und Herstellung von Photomasken. Es bietet Funktionen für eine breite Palette von Halbleiterprojekten, wie Prozessor, digitale Signalverarbeitung, Speicher, analoges Mischsignal und Hochgeschwindigkeitslogik. Mebes 4500 verfügt über ein integriertes System zur Maskenerzeugung und -produktion, das erweiterte Maskenlayoutdienste unterstützt. Es enthält auch eine leistungsstarke Maskendesign-Datenbank und leistungsstarke Maskeninspektionsfunktionen. Das Gerät ist vollautomatisiert und so konzipiert, dass es eine schnelle Maskenentwicklung und einen hocheffizienten Produktionsdurchsatz ermöglicht. Die Maschine bietet wählbares Maskenschreibwerkzeug (MPC-Emulatoren) und Maskeninspektionsbestandteil mit erweiterten Inspektions- und Messfähigkeiten, wie Pixelinhaltsanalyse, automatische Fehlererkennung, Fehlerisolierung und optische Bildgebungsfunktionen. So können Anwender schnell und mit minimaler Interaktion vom Bediener präzise und hochwertige Masken erstellen. ETEC Mebes 4500 verfügt auch über fortschrittliche Lithographie-Tools, die äußerst präzise Ergebnisse liefern. Hochleistungssteindruckverfahrenfähigkeiten von Angeboten der Plattform des Designs von ETEC, mit den letzten modernsten Technologien wie regulierbare Aussetzungsdosis, haben polarisierte Beleuchtung kontrolliert, und haben defocus Auswirkungen reduziert. Diese Plattform umfasst auch erweiterte Simulationsmöglichkeiten zur Optimierung des lithographischen Prozesses. Mebes 4500 ist auch mit einem automatisierten Maskenbetriebsmodell konzipiert, das einen konsistenten und zuverlässigen Betrieb gewährleistet. Das Gerät bietet leistungsstarke Werkzeuge für Maskenherstellung und -inspektion, Routing, Layout-Optimierung, Design-Regelprüfung und Verifizierung. Es bietet auch leistungsstarke Softwareanwendungen und Analyseprogramme für automatisierte Aufgaben, wie die Angabe von Lithographieparametern, Simulation, automatische Montage und OPC. Darüber hinaus bietet ETEC Mebes 4500 eine umfangreiche Palette fortschrittlicher Maskenherstellungs-, Test- und Nachbearbeitungsfunktionen. Das System ist außerdem mit ausgeklügelten Tools zur Datenmanipulation und Datenverwaltung ausgestattet, die es Anwendern ermöglichen, Maskendaten während des gesamten Maskenproduktionsprozesses schnell und einfach zu verfolgen. Insgesamt ist Mebes 4500 eine umfassende Einheit, die erweiterte Fähigkeiten für die Erstellung und Herstellung präziser, hochwertiger Photomasken bietet. Es verfügt über modernste Lithographie-Tools, die fortschrittliche Masken-Layout-Services und Lithographie-Simulationen unterstützen. Es bietet auch automatisierte Maskenbetriebs- und Datenverwaltungstools sowie eine Reihe fortschrittlicher Funktionen zur Herstellung, Inspektion und Nachbearbeitung von Masken. Dadurch ist sie eine ideale Lösung für eine Vielzahl von Halbleiterprojekten.