Gebraucht ETEC Mebes 4500 #9396894 zu verkaufen

ETEC Mebes 4500 ist eine Maskenerzeugungs- und -produktionsanlage, die die Massenproduktion hochpräziser Photomasken ermöglicht, die bei der Herstellung von Halbleitern verwendet werden. Es verwendet eine hochmoderne laserbasierte direkte Schreibtechnologie, die ein ultraschnelles Schreiben komplexer Funktionen mit beispielloser Genauigkeit und Wiederholbarkeit ermöglicht. Dieses hochmoderne System ist in der Lage, eine Vielzahl von komplizierten Maskenmustern mit Größen von 3 μ m bis über 50 μ m zu erzeugen. Mebes 4500 verfügt über vier Laserbelichtungsköpfe, zweidimensionale Bildgebung, zusammen mit Bewegungssteuerung des Adresskopfes, Retikelstufe und Wafer/Maske Bühne. Dadurch wird eine präzise Handlung von Schreiben, Abbilden, Ausrichten und Homogenisieren der Maskenmuster auf die gewünschten Genauigkeitsanforderungen gewährleistet. Darüber hinaus enthält die Einheit einen Retikelprozessoptimierungsalgorithmus, der durch Anpassungen während der inital vorgegebenen Musterfolge konsistente, wiederholbare Ergebnisse liefert. Der hochpräzise und stark reproduzierbare Maskenherstellungsprozess von ETEC Mebes 4500 sorgt dafür, dass die kompliziertesten Designs und die fortschrittlichsten Lithographieverfahren erreicht werden können. Diese leistungsstarke Maschine ist in der Lage, Masken mit einer Auflösung von bis zu 5000 Belichtungswinkeln zu produzieren, 6x besser als herkömmliche Fotomasken. Es bietet auch beeindruckende Geschwindigkeit und erzeugt Masken bis zu 40-mal schneller als alternative Technologie. Eine Reihe erweiterter Inspektionsmöglichkeiten sind ebenfalls enthalten, wie Fehlerkartenanalyse, ASML-Spotgrößenkontrolle und Waferinspektion mit hohem Durchsatz. Das Tool unterstützt auch den Wafer-Backside-Betrieb für 3D-Strukturen und eine proprietäre Image Split/Merge-Verarbeitung für extrem große Masken. Mebes 4500 ist eine ideale Lösung für Maskenhersteller, die hochpräzise Masken mit Wiederholbarkeit erzeugen, die jedem anderen Asset weit überlegen sind. Sein Laser-Schreibprozess sorgt für beispiellose Präzision und Geschwindigkeit bei der Herstellung der kompliziertesten und fortschrittlichsten Maskenmuster.