Gebraucht MICRONIC Mach 2 #9258989 zu verkaufen

MICRONIC Mach 2 Maske Generation & Production Equipment ist ein vielseitiges, hochpräzises Ausrüstungssystem, das die Erstellung verschiedener physikalischer Masken für Mikroelektronik-Anwendungen ermöglicht. Das Gerät verwendet Photolithographie und Elektronenstrahl (E-Strahl) -Technologie, um Masken auf und durch Substrate zu erzeugen und zu verarbeiten. Es bietet die Flexibilität und Präzision, die für Prototyping, die Produktion von Hochleistungsmasken und QC/QA-Operationen erforderlich sind. Mach 2 verfügt über eine 300mm Waferstufe, um die Bewegung einer Maskenarbeitsfläche entlang der x-, y- und z-Achsen an Bord der Maschine zu ermöglichen. Die Navigationswerkzeuggenauigkeit beträgt 0,1 μ m bei Fahrgeschwindigkeiten von bis zu 140 mm/s. Es ist in der Lage, Standard, Multi-Maske und mehrstufige Methoden. Eine 2kW Ionenquelle und eine 6-Achsen-Positionierung ermöglichen die Strukturierung einer Vielzahl von Geräten zu Masken mit einem Durchmesser von bis zu 6 Zoll. Die Ionenquelle bietet eine optimale Dosiskontrolle bei Verwendung von CF4 oder Ar-Ionenätzprozessen. Mit einem automatischen Präzisions-Wafer-Ausrichtungsmodell ist MICRONIC Mach 2 in der Lage, eine mehrstufige Ausrichtung und eine Produktionsmaske von bis zu 150 mm zu erstellen. Mach 2 kann verwendet werden, um physikalische Bilder bis zu 0,35 μ m Auflösung und Funktionsgrößen bis zu 500 μ m auf einem einzigen Substrat zu erstellen. Für Vergleiche und QC/QA-Prozesse gibt MICRONIC Mach 2 auch Produktionsmaskenbilder als digitale Bitmaps (DFT-Dateien) aus. Mach 2 macht die Maskenerzeugung und -produktion schneller, effizienter und präziser. Durch den Einsatz fortschrittlicher Photolithographie und E-Beam-Technologie bietet es einen schnellen Durchsatz und eine konstant hochpräzise Produktion von photolithographisch gemusterten Masken. Und seine Fähigkeit, große Arbeitsbereiche zu bearbeiten, macht es für Prototyping, Produktion QA/QC-Prozesse und andere Anwendungen geeignet.