Gebraucht MICRONIC MP-80 #9153039 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

ID: 9153039
Laser system Photo masks Flat display: 4” to 28” Square With level 40 lens Missing parts.
MICRONIC MP-80 ist eine Maskenerzeugungs- und -produktionsanlage, die entwickelt wurde, um schnell hochauflösende Mikromasken herzustellen, die für die Herstellung von MEMS, Verbundhalbleitern und ICs erforderlich sind. Im Betrieb verwendet MP-80 einen vollwertigen, direkten Schreibelektronenstrahl, um Masken mit kritischen Abmessungen bis zu 0,1 µm genau zu erzeugen. Das System ist mit hochpräzisen Übersetzungsstufen für die XYZ-Bewegung des Maskensubstrats sowie einer Software-Controlled Optics Unit (SCOS) ausgestattet, um eine gleichbleibende Bildqualität zu gewährleisten und Fehler bei der Fehlausrichtung zu reduzieren. Darüber hinaus ist MICRONIC MP-80 mit einem innovativen Low Loss Electron Beam Exposure Tool (LET) integriert. Mit diesem Werkzeug wird sichergestellt, dass der Elektronenstrahl immer im Fokus bleibt und die potentiellen Oberflächenkonturen der Maske im Flugzeug kompensiert. Dies geschieht durch Messung der Elektronenstrahlposition in Echtzeit und entsprechende Einstellung des Strahlfokus. MP-80 ist auch mit einer in-situ Ebenheitsmessmaschine ausgestattet, um Substratverzerrungen und andere Defekte des Maskenmaterials vor der Herstellung zu erkennen. MICRONIC MP-80 ist auch auf Benutzerfreundlichkeit ausgelegt. Seine Benutzeroberfläche ermöglicht es dem Benutzer, Masken intuitiv aus vorhandenen Zeichnungen einzurichten und auszuführen oder eigene Designs zu erstellen. Mit dem mitgelieferten Softwarepaket sind alle Funktionen wie Maskendatenverarbeitung, Feature-Platzierung, Verifizierung und Balkenformwerkzeuge verfügbar. Das Tool wird auch mit einer Bibliothek von Standard-Elementmustern geliefert, die schnell in ein Maskendesign integriert werden können. MP-80 ist ein sehr zuverlässiges und zuverlässiges Gut für die Maskenerzeugung und -herstellung. Sein hochpräzises Antriebsmodell und seine erweiterten Prozesssteuerungsfunktionen sind mehr als in der Lage, einen Start-bis-Ende-Durchsatz von 72 Masken in 1 Stunde mit einer Auflösung von 0 1 µm zu erreichen. Dies macht es ideal für eine Vielzahl von Anwendungen in der Herstellung von MEMS, Verbundhalbleitern und ICs.
Es liegen noch keine Bewertungen vor