Gebraucht QUANTRONIX DRS 840 #9396110 zu verkaufen

QUANTRONIX DRS 840 ist eine leistungsstarke Maskenerzeugung und Produktionsanlage. Es ist für fortgeschrittene Mikrolithographieanwendungen konzipiert, einschließlich der Inspektion, Charakterisierung und Herstellung von Maskensubstraten und -strukturen. Das System ist in der Lage, eine breite Palette von Photomasken zu produzieren, von Standard-Einschichtmasken bis hin zu Mehrschichtmaskierungssystemen mit präziser Registrierung und kritischer Overlay-Genauigkeit. DRS 840 ist eine kostengünstige Lösung für die industrielle Mikrolithographie mit intelligenten Funktionen, die den Durchsatz optimieren und Kosten senken. Das Gerät integriert sich in QUANTRONIX Innovationssuite aus Maskenautorisierung, Maskeninspektion und Messtechnik. Dazu gehört eine leistungsstarke und automatisierte Maskenautorisierungsmaschine mit fortschrittlichen Musteralgorithmen zur präzisen Erzeugung von Photomasken. Es ist mit einer hochempfindlichen automatisierten Maskeninspektionsstation ausgestattet, um Fehler in den Photomasken schnell zu identifizieren, und einem hochmodernen Metrologiewerkzeug zur eingehenden Analyse von Strukturen bis hin zum Submikron-Maßstab. Alle diese Elemente sind einfach zu bedienen und mit einer intuitiven grafischen Benutzeroberfläche zu steuern. QUANTRONIX DRS 840 ermöglicht eine breite Palette von Photomasken-Substraten und -Mustern, einschließlich EAA, positiv, negativ und MDO (Multi-Dimensional OPC). Die Anlage kann auch eine breite Palette von Spotgrößen, von 250 nm bis 25 μ m. Das Modell enthält ein integriertes Vakuumfutter, das ein schnelles und einfaches Be- und Entladen der Maske ermöglicht. Es ist auch mit einem integrierten Prozessmonitor ausgestattet, um Prozesskonsistenz und Wiederholbarkeit zu gewährleisten. DRS 840 wurde entwickelt, um einen konsistenten und zuverlässigen Produktionsprozess zu bieten. Es bietet eine schnelle Belichtungszeit von 2,5 s und ist mit Auto-Fokus und Auto-Kalibrierung Funktionen ausgestattet, um eine genaue Belichtung zu gewährleisten. Es umfasst auch eine Inline-Laser-Überwachungseinrichtung, die ständig den Laserleistungspegel und die Strahlqualität misst und jegliche Verschlechterung oder andere potenzielle Probleme meldet. QUANTRONIX DRS 840 wurde entwickelt, um Abfall zu minimieren, Kosten zu senken und den Durchsatz zu optimieren. Es bietet automatische Maskenstufensubstratsteuerung, automatische Belichtungswiederholbarkeit und automatische Kontaminationserkennungsfunktionen. Es enthält auch einen hoch konfigurierbaren Satz von Software-Tools, mit denen Benutzer Belichtung simulieren und komplexe Photomasken-Muster analysieren können. Das System verfügt über eine Prozesssteuerungsfähigkeit, die Anwendern die Flexibilität bietet, ihre Prozesse für verschiedene Materialien und Substratanforderungen anzupassen. DRS 840 ist eine ausgezeichnete Wahl für die fortschrittliche Photomaskenproduktion. Die fortschrittlichen Funktionen und die ausgeklügelte Automatisierung machen es zu einer idealen Wahl für jede industrielle Mikrolithographie. Es bietet die Genauigkeit und Zuverlässigkeit, die für die Herstellung anspruchsvoller Photomasken und die Gewährleistung präziser und wiederholbarer Produktionsergebnisse erforderlich ist, und dient gleichzeitig als kostengünstige Lösung für Anwendungen im industriellen Maßstab.