Gebraucht TAMARACK 162D #9130935 zu verkaufen
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ID: 9130935
Wafergröße: 6"
Double sided mask aligner, 6"
Typically for hybrids
Max intensity: 70 mj/cm²
Resolution: 25-35 microns
Inverted split field microscope
(2) Power supplies: 1000 Watts
(2) Lamps: 1000 Watts
Does not include mask / Substrate holders.
TAMARACK 162D ist eine umfassende Maskenerzeugung und -produktion von MOCVD Mask Technologies, die für die Serienproduktion entwickelt wurde. Es verfügt über ein fortschrittliches Design für komplexe E-Beam-Lithographie-Anwendungen mit einer breiten Palette von Maskenerzeugungsfunktionen. Das System nutzt eine fortschrittliche Stufe zur Erzeugung von Masken mit exakter motorgetriebener XYZ-Ausrichtung und laserorientierten Zielpunkten. Dadurch wird sichergestellt, dass Masken in jeder Phase genau repliziert werden. Die Software zur Erzeugung von Masken ermöglicht die Manipulation von Funktionen auf CAD-Ebene mit erweiterten Auflösungsfunktionen. Dies bietet dem Anwender eine hervorragende Kontrolle und Präzision für Maskendesigns. Die Software unterstützt auch Komplexitätsdesigns auf hohem Niveau wie komplizierte Linienabstände und Details zu Funktionen auf mehreren Ebenen. Die Maschine verwendet einen Hochdurchsatzprozess, um feinste Präzision von Maskenmustern zu erzeugen. Es enthält Funktionen wie eine schnelle Scanzeit und eine hochauflösende Stufe, die eine großflächige Maskenmusterung ermöglichen. Dazu gehören Funktionen wie eine vollautomatisierte optische Positioniereinheit und variable Schrittgrößen. Die Maschine unterstützt eine breite Palette von Belichtungen, einschließlich Laser-Durchgangsmaske und E-Strahl. Dies ermöglicht variable Belichtungszeiten und Genauigkeit bei höchster Qualität. Darüber hinaus bietet es mehrere Ebenen der Schutzumgebung und Kontrolle über den Prozess. Die Maskenerzeugungsstufe unterstützt Masken mit bis zu 12 Stufen/Freiheitsgraden und einer genauen Platzierung von 0,25 Mikrometern bei einer Mindestlänge von 5 Mikrometern. Für die Maskenproduktion unterstützt es eine Vielzahl von Träger- und Substratmaterialien und verfügt über ein vollständiges Spektrum an Maskengrößen. Das Design bietet auch Unterstützung für mehrere Rückseite-Funktionen. 162D ist für Hochgeschwindigkeits-, Hochauflösungs- und Serienproduktion ausgelegt. Seine Eigenschaften bieten eine kostengünstige Fertigungslösung für die Maskenproduktion, was es ideal für Unternehmen macht, die ihre Maskenproduktionskapazität schnell erhöhen möchten. Seine fortschrittlichen Design- und Verarbeitungsfunktionen geben den Benutzern die Flexibilität und Kontrolle, die sie benötigen, um hohe Präzision und Genauigkeit für ihre Maskendesigns zu erreichen.
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